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形状干渉計算の英語
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英訳・英語 geometric interference check
「形状干渉計算」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
二つの3次元形状の干渉計算を安定して実行できるようにする。例文帳に追加
To stably calculate interference between two three-dimensional shapes. - 特許庁
得られた補正形状を3次元形状データベース10に保存し(ステップS6)、補正結果を用いて干渉計算を行う(ステップS7)。例文帳に追加
The obtained corrected shape is saved in the three-dimensional shape database 10 (S6) and the correction result is used to perform interference calculation (S7). - 特許庁
3次元形状データベース10から干渉計算を行う二つの3次元形状データを参照し(ステップS1)、二つの形状の線、面データを覆う直方体(または球)を生成し(ステップS2)、干渉候補データベース20に保存する(ステップS3)。例文帳に追加
Two pieces of three-dimensional shape data whose interference is to be calculated are referred to in a three-dimensional shape database 10 (S1) and a rectangular parallelepiped (or sphere) covering line and plane data of two shapes is generated (S2) and saved in an interference candidate database 20 (S3). - 特許庁
3次元形状処理装置は、入力部11、入力読み取り部12、形状記憶部13、三角形メッシュ干渉計算部14、形状表示部15の各機能から構成される。例文帳に追加
A three dimensional shape processing device has the functions of an input section 11, an input data reading section 12, a shape memory section 13, a triangle mesh interference calculation section 14 and a shape display section 15. - 特許庁
計算機ホログラム5の製造方法は、干渉縞データに基づいた描画用矩形データの形状に対応した微細矩形パターン1aを有する原盤1を作製する。例文帳に追加
The method for manufacturing the computer hologram fabricates a master disk 1 having fine rectangular patterns 1a corresponding to the shape of rectangular data for drawing based on interference fringe data. - 特許庁
パターンの構成単位であるセルまたはドットの内部に配置される計算機ホログラムの形状は矩形であり、前記矩形の大きさ,形成される干渉縞の深さの少なくとも一方を任意に変化させ、セル型計算機ホログラムからの再生光の輝度変調(回折効率)を任意に設定する。例文帳に追加
The shape of the computer holograms arranged within the cells or dots which are the constitution units of patterns is rectangular and the luminance modulation (diffraction efficiency) of the reproducing light from the cell type computer holograms is arbitrarily set by arbitrarily changing at least either of the size of the rectangular shape and the depth of formed interference fringes. - 特許庁
受信機によって受信された信号の処理中に、このシステムは、送信機によってブロードキャストされた信号により形成される干渉効果パターンによって変更された信号から、目標物体の高度を計算するか、または、3以上の送信機に関連付けられた幾何学形状の計算およびそれらの形状の交点を求めることから、目標物体の高度を選択的に計算する。例文帳に追加
During processing of signals received by a receiver, the system calculates the altitude of the target object, from signals modified by an interference effect pattern formed by the signals broadcast by a transmitter, or selectively calculates the altitude of the target object, by calculating geometric shapes associated with three or more transmitters and determining an intersection point of these shapes. - 特許庁
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「形状干渉計算」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
本発明は,位相シフト法を用いてウェーハの一方の面の形状を測定するのに同期してウェーハの他方の面の干渉縞画像から移動量を計算し,求めた移動量を用いて,ウェーハの一方の面の形状を計算することによって,ウェーハに移動がある場合にも高い測定精度を確保することを図ったものである。例文帳に追加
The moving quantity of the water is calculated from the interference fringe image of the other surface of the wafer, in synchronization with respect to the measurement of the shape of one surface of the wafer using a phase shift method, and the shape of one surface of the wafer is calculated using the calculated moving quantity to ensure high measurement accuracy, even when the wafer is moved. - 特許庁
本発明の表面形状測定方法によれば、2波長位相シフト干渉法における各位置の縞次数の決定において、縞次数の計算に含まれる誤差分布が推定され(ステップS21〜S24)、その誤差分布から特定した誤差を差し引いて縞次数が求められる(ステップS25,S26)。例文帳に追加
In the surface shape measuring method, an error distribution contained in fringe order computation is estimated in the determination of fringe order of each position in two-wavelength phase-shifting interferometry (Step S21-S24), and the fringe order is determined by subtracting specified errors from the error distribution (Step S25 and S26). - 特許庁
ストロボ位相シフト干渉装置において、光路差を設定し、設定した光路差に対し3点以上の複数位相で動作中のMEMSの高さを計測し、動作状態のMEMSの高さ軌跡の推定式を算出し動作状態のMEMSの形状を計算により求める。例文帳に追加
A stroboscopic phase shift interference device sets optical path difference, measures the height of the MEMS under operation at a plurality of phases at three or more points with respect to the set optical path difference, calculates an estimation equation of height locus of the MEMS under operation, and determines the shape of the MEMS under operation by calculation. - 特許庁
改良された二つの位相シフトフィゾ(Fizeau)干渉計20、40の組み合わせを用いて、ウエーハ60の側面61又は62の各々とそれに対応する基準平面32又は52の間の単一側面の間隔マップを同時に計測し、コンピュータ38、58でこれらのデータから厚さ変化と形状を計算する。例文帳に追加
Spacing maps of single side faces between a side face 61 or 62 of the wafer 60 and a reference plane 32 or 52 corresponding respectively thereto are measured at the same time, using combination of two improved phase shift Fizeau interferometers 20, 40, and computers 38, 58 calculates the thickness variation and the shape, based on data therein. - 特許庁
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