有機シリコン化合物の英語

そしてシリコン有機化合物からなる成膜ガスを前記処理容器２、２１内に供給しオゾンとシリコン有機化合物とを反応させて基板上にシリコン酸化膜を成膜する。例文帳に追加

Then, a film forming gas comprising a silicon organic compound is supplied into the processing containers 2 and 21, ozone and the silicon organic compound are made to react, and the silicon oxide film is formed on the substrate. - 特許庁

先駆物質は、シラン、シリコン、有機金属化合物、およびシリコン含有ガスからなるグループから選択される。例文帳に追加

The precursor is selected among silane, silicon, organic metal compound, and silicon-contained gas. - 特許庁

有機シリコン化合物の酸化を一時的に増大させることによって酸化シリコン層の隣に酸素リッチ表面を形成してもよい。例文帳に追加

An oxygen-rich surface may be formed adjacent to a silicon oxide layer by temporarily increasing oxidation of the organosilicon compound. - 特許庁

シリコン担体の表面に金属錯体を固定した触媒を使用する有機化合物の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING ORGANIC COMPOUND USING CATALYST FORMED BY FIXING METAL COMPLEX ON SILICON CARRIER SURFACE - 特許庁

少なくとも金微粒子、有機チタン化合物、有機シリコン化合物、有機銀化合物、有機錫化合物、バインダー樹脂、そして有機溶剤を混合した処理液からなるピンク色着色用組成物である。例文帳に追加

The objective pink-coloring composition comprises a treating solution prepared by mixing at least gold microparticles, an organotitanium compound, an organo-silicon compound, an organosilver compound, an organotin compound, a binder resin and an organic solvent. - 特許庁

気化安定性に優れ、高い成膜速度を有し、従来の有機シリコン化合物よりも低温での膜成長が可能な有機シリコン化合物及びその溶液原料並びに該化合物を用いたシリコン含有膜の形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide an organosilicon compound having excellent evaporation stability and a high film-forming rate, and enabling the film to be grown at a temperature lower than that by a conventional organosilicon compound; to provide a solution raw material of the compound; and to provide a method for producing a silicon-containing film by using the compound. - 特許庁

有機シリコン化合物としてＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン：（ＣＨ３）３Ｓｉ−Ｓｉ（ＣＨ３）３）をシリコン原子未結合手と反応させて化学的にシリコン未結合手を安定化させて少数キャリアの発生を抑制した。例文帳に追加

The generation of the small number of carriers is suppressed by causing HMDS (hexamethyldisilazane: (CH_3)3Si-Si(CH_3)_3) to react with an uncombined bond of a silicon atom as an organic silicon compound and chemically stabilizing the uncombined bond. - 特許庁

層間絶縁膜の形成方法は、酸素原子を含有しない有機シリコン化合物、及び酸素原子を含有する有機シリコン化合物を原料として用いて、プラズマＣＶＤ法により、基板上に層間絶縁膜を形成する。例文帳に追加

The forming method for the interlayer insulating film uses the oxygen atom-containing and non oxygen atom-containing organic silicon compounds as raw materials, and forms the interlayer insulating film on a substrate by employing the plasma CVD method. - 特許庁