校正手法の英語

校正値算定部１６は，所定の算出手法により，校正値蓄積記憶部１５に記憶された複数の校正値から測定に用いる測定機器の校正値を算定する。例文帳に追加

A calibration value computation part 16 computes a calibration value of a measuring apparatus to be used for measurements on the basis of a plurality of calibration values stored in the calibration value accumulation and storage part 15 by a prescribed computation means. - 特許庁

簡便な手法で正確な校正を行うことが可能な周波数シンセサイザの内部基準信号を校正する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a calibration method of an internal reference signal in a frequency synthesizer, which performs accurate calibration by a simple technique. - 特許庁

光相関手法を用いた２以上の画像の同一性、類似性を相関値と閾値の比較で判定する画像認識方法に於いて、基準画像同士で得られる自己相関値を基準に閾値の校正を行う。例文帳に追加

The image recognition method for determining identity and similarity of two or more images, using optical correlation by comparing a correlated value and a threshold, includes calibration of the threshold value based on an autocorrelation value obtained between the reference images. - 特許庁

煤煙微粒子の低濃度領域における簡便な測定装置を提供し、この装置による測定値について信頼性のある校正手法を確立し、利用すること。例文帳に追加

To provide a simple measuring device for the low concentration range of soot particulates, and establish and utilize a reliable calibration technique for measurement values obtained by the device. - 特許庁

湖沼等の濁度や透視度を光学的な手法によって測定する光透過量測定センサに対し、外乱の影響を小さくし、信頼性の高い校正が行えるようにする。例文帳に追加

To reduce influence of disturbance, and to execute calibration having high reliability, relative to a light transmission quantity measuring sensor for measuring turbidity or transparency of lakes, marshes or the like by an optical method. - 特許庁

また他の手法として、ＭＦＣの設定流量に対応する信号とＭＦＣのバルブの開度に対応する信号との関係を予め取っておき、そのデータと校正時のデータとを比較するようにしてもよい。例文帳に追加

As another method, a relationship between a signal corresponding to an established flow rate of the MFC and a signal corresponding to the opening of a valve of the MFC is stored in advance and the comparison of this data with the data at calibration time may fulfill the object. - 特許庁

上記課題を解決するために、リソグラフィー手法を用いて矩形状パターンを形成し、そのパターンピッチを標準マイクロスケールで校正した測長ＳＥＭで標準値を付与するとともに不確かさを付記した。例文帳に追加

A square pattern is formed by using lithography method, a standard value is given with a length measurement SEM of which the pattern pitch is calibrated with a standard value and uncertainty is added. - 特許庁