注入条件の英語

基体上に形成された構造体に注入され、構造体の側面から基体に再注入される再注入ドーズを算出し、分布関数と再注入ドーズの再注入条件とから、基体に注入される不純物の濃度分布を算出するイオン注入のシミュレーションを行う。例文帳に追加

An ion injection simulation method includes: calculating a reinjection dose injected into a structure formed on a substrate and reinjected from a side face of the structure to the substrate; and calculating concentration distribution of impurities injected into the substrate from a distribution function and reinjection conditions of the reinjection dose. - 特許庁

以後、前記適合した条件でイオン注入された領域ＲＮ−１はマスクで遮断して、残り領域ＣＮは露出させるためのマスクを介在して前記残り領域に対するイオン注入条件を補償する条件で領域４４にイオン注入工程を遂行する。例文帳に追加

Then, the region RN-1, Where ion is implanted under the condition, is shielded with a mask, and related to the remaining CN, with a mask for exposure in-between, an ion-implantation process is performed with a region 44 under conditions which compensates for the ion-implantation conditions to the remaining region. - 特許庁

イオン注入後のレジスト膜のアッシング条件の切替タイミングを正確に知る。例文帳に追加

To accurately find the changeover timing of ashing conditions of a resist film after ion implantation. - 特許庁

この材料がさらされる原子炉水を極微量水素注入量に相当する条件に設定する。例文帳に追加

Reactor water to which the material is exposed is set at a condition corresponding to very small hydrogen injection quantity. - 特許庁

所望の造影効果を得るために必要な注入条件を求め、より適切な造影効果を得る。例文帳に追加

To provide a more appropriate imaging effect by providing an injection condition required for obtaining a desired imaging effect. - 特許庁

このときのイオン注入条件は、注入エネルギー３００ｋｅＶ、ドーズ量２×１０^１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２である。例文帳に追加

Ion implantation conditions for the ion implantation are 300 keV ion implantation energy and 2×10^18 atoms/cm^2 dose amount. - 特許庁

リン注入条件は次に、接合境界の位置をヒ素注入に起因する損傷に対して移動させるように選択される。例文帳に追加

The phosphorus implanting condition is then selected by moving the position of the boundary to the damage caused by the arsenic implantation. - 特許庁

イオン注入装置に設定されるイオン注入条件に基づいて、調整目標設定データを検索する。例文帳に追加

On the basis of the ion implantation condition set to the ion implanter, adjustment target setting data are retrieved. - 特許庁