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注入条件の英語
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英訳・英語 injection condition
「注入条件」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 201件
ディファレンシャル注入における条件設定方法例文帳に追加
METHOD FOR SETTING CONDITIONS FOR DIFFERENTIAL IMPLANTATION - 特許庁
加速電圧3MV、注入量1.0×10^15/cm^2の条件でイオン注入を行った。例文帳に追加
The ion implantation is performed under conditions of 3MV acceleration voltage and 1.0×10^15/cm^2 implantation rate. - 特許庁
ステップS1では、イオン注入に先立って注入条件の入力を行う。例文帳に追加
In a step S1, an implantation condition is inputted before ion implantation. - 特許庁
イオン注入条件の設定方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR SETTING ION IMPLANTATION CONDITION AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
基体上に形成された構造体に注入され、構造体の側面から基体に再注入される再注入ドーズを算出し、分布関数と再注入ドーズの再注入条件とから、基体に注入される不純物の濃度分布を算出するイオン注入のシミュレーションを行う。例文帳に追加
An ion injection simulation method includes: calculating a reinjection dose injected into a structure formed on a substrate and reinjected from a side face of the structure to the substrate; and calculating concentration distribution of impurities injected into the substrate from a distribution function and reinjection conditions of the reinjection dose. - 特許庁
分解条件判定ステップは、注入された試行粒子がターゲットに衝突した際に所定の分解条件を満たしているか否かを判定する。例文帳に追加
A decomposition condition judging step judges whether the prescribed decomposition condition is satisfied when the injected trial particles are collided into the target. - 特許庁
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「注入条件」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 201件
このときの表面形状は、微粉体の種類、添加量、粒径、混合条件や固着注入条件によって制御できる。例文帳に追加
The surface shape at this time can be controlled according to the kind, amount and particle diameter of the fine powder, mixing conditions and sticking and implanting conditions. - 特許庁
以後、前記適合した条件でイオン注入された領域RN−1はマスクで遮断して、残り領域CNは露出させるためのマスクを介在して前記残り領域に対するイオン注入条件を補償する条件で領域44にイオン注入工程を遂行する。例文帳に追加
Then, the region RN-1, Where ion is implanted under the condition, is shielded with a mask, and related to the remaining CN, with a mask for exposure in-between, an ion-implantation process is performed with a region 44 under conditions which compensates for the ion-implantation conditions to the remaining region. - 特許庁
イオン注入後のレジスト膜のアッシング条件の切替タイミングを正確に知る。例文帳に追加
To accurately find the changeover timing of ashing conditions of a resist film after ion implantation. - 特許庁
この材料がさらされる原子炉水を極微量水素注入量に相当する条件に設定する。例文帳に追加
Reactor water to which the material is exposed is set at a condition corresponding to very small hydrogen injection quantity. - 特許庁
所望の造影効果を得るために必要な注入条件を求め、より適切な造影効果を得る。例文帳に追加
To provide a more appropriate imaging effect by providing an injection condition required for obtaining a desired imaging effect. - 特許庁
このときのイオン注入条件は、注入エネルギー300keV、ドーズ量2×10^18atoms/cm^2である。例文帳に追加
Ion implantation conditions for the ion implantation are 300 keV ion implantation energy and 2×10^18 atoms/cm^2 dose amount. - 特許庁
リン注入条件は次に、接合境界の位置をヒ素注入に起因する損傷に対して移動させるように選択される。例文帳に追加
The phosphorus implanting condition is then selected by moving the position of the boundary to the damage caused by the arsenic implantation. - 特許庁
イオン注入装置に設定されるイオン注入条件に基づいて、調整目標設定データを検索する。例文帳に追加
On the basis of the ion implantation condition set to the ion implanter, adjustment target setting data are retrieved. - 特許庁
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