界面ミキシングの英語

界面活性剤を含有させることにより塗布性を向上させた帯電防止剤は、化学増幅系レジスト、および非化学増幅系レジストに対するミキシング抑制に効果がある。例文帳に追加

The antistatic agent having improved coatability by comprising the surfactant is effective for mixing suppression not only in the chemically amplified resist but also in non-chemically amplified resist. - 特許庁

界面活性剤を含有させることにより塗布性を向上させた帯電防止剤は、化学増幅系レジスト、および非化学増幅系レジストに対するミキシング抑制に効果がある。例文帳に追加

An antistatic agent having improved coatability by comprising surfactant has an effect of suppressing mixing both in chemically amplified resist and non-chemically amplified resist. - 特許庁

マイクロミキサー１１０では、給液口１５２，１５４を通してそれぞれミキシング流路１４６内へ導入される２種類の溶液が給液口１５２，１５４の開口幅にそれぞれ対応する薄片状の層流となってミキシング流路１４６内を流通すると共に、互いに隣接する層流間の界面で各溶液の分子が相互に拡散する。例文帳に追加

In a micromixer 110, two kinds of solutions respectively introduced in a mixing flow channel 146 through supply ports 152, 154 of solutions circulate in the mixing channel 146 while being thin laminar flows respectively corresponding to the opening widths of the supply ports 152, 154, and the molecules of the respective solutions mutually disperse on the interface between the adjacent laminar flows. - 特許庁

反射防止膜とフォトレジスト膜の界面付近のインターミキシングの発生を抑制でき、また、反射防止膜の上のレジストパターンをほぼ垂直形状にすることができ、さらに、反射防止膜の下層のダメージを低減することができる反射防止膜材料を提供する。例文帳に追加

To provide an antireflection film material that prevents intermixing in the vicinity of an interface of an antireflection film and a photoresist film and provides a resist pattern with an almost vertical wall profile on the antireflection film and reduces damages in an underlying layer of the antireflection film. - 特許庁

基材１の表面に形成したＳｉ含有炭素膜１３ａに対してイオン注入を行い基材１との界面にミキシング部１４を形成させた中間層１３と、中間層１３の表面に所定の膜厚で形成した硬質炭素膜１５とを備えた摺動部材１２とする。例文帳に追加

The sliding member 12 comprises: an intermediate layer 13 which has a mixed part 14 formed in an interface between a substrate 1 and a Si-containing carbon film 13a formed on the surface of the substrate 1, by implanting ions into the Si-containing carbon film 13a; and the hard carbon film 15 with a predetermined film thickness formed on the surface of the intermediate layer 13. - 特許庁

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a resist pattern which does not give rise to intermixing at the boundary between an upper layer resist layer and a lower layer resist layer and consequently has a good shape, a method of forming this resist pattern, a patterning method of a thin film by using this resist pattern and a method of manufacturing a thin-film magnetic head. - 特許庁

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a resist pattern causing no intermixing on an interface between an upper resist layer and a lower resist layer and thereby, having a favorable profile, and to provide a method for forming a resist pattern, and a method for patterning a thin film using the resist pattern, and a method for manufacturing a thin film magnetic head. - 特許庁