窒素ラジカルの英語

さらに、堆積チャンバにラジカル窒素前駆体を導入することを含み、ラジカル窒素およびシリコン含有前駆体は反応して基板上にシリコンおよび窒素含有膜を堆積する。例文帳に追加

Moreover, the method includes introducing the radical nitrogen precursor to the deposition chamber, wherein the radical nitrogen and silicon-containing precursors react and deposit the silicon and nitrogen containing film on the substrate. - 特許庁

これにより、ウエハ表面に窒素ラジカルを供給して窒化処理を行う。例文帳に追加

Thus, the nitrogen radicals are supplied to the surfaces of the wafers 23 to nitrogenize them. - 特許庁

この窒化処理は、窒素ガスのプラズマ中に生成された窒素ラジカルで窒化シリコン膜を窒化することで行われる。例文帳に追加

The nitridation treatment is performed by nitriding the silicon nitride film by nitrogen radicals produced in plasma of a nitrogen gas. - 特許庁

その後，窒素ラジカル中で熱処理を行い，ＡｌＧａＮ電子供給層１４の表層の窒素空孔欠陥を回復させる。例文帳に追加

Then, the layer is thermally treated in nitrogen radical to recover nitrogen electron hole defect in the surface layer of the AlGaN electron donor layer 14. - 特許庁

非放電部１２が放電部１１を囲むように設けられ、窒素ラジカルジェットを囲むように窒素ガスを放出する。例文帳に追加

A non-discharge portion 12 is provided to surround a discharge portion 11 and discharges nitrogen gas so as to enclose the nitrogen radical jet. - 特許庁

この酸化分解方法では、難分解性の窒素系有機化合物の窒素原子を含んだ構成成分を、ＯＨラジカルにて酸化分解する。例文帳に追加

In the oxidative decomposition method, a nitrogen atom-containing component of a hardly decomposable nitrogen-based organic compound is subjected to oxidative decomposition by an OH radical. - 特許庁

含有されるラジカル化合物は、窒素原子上にラジカルを有する３価のフェルダジル基もしくは４価のフェルダジル基上にラジカルを有する化合物、トリフェニルフェルダジル基を有する化合物である。例文帳に追加

As this radical compound, a compound having a radical on a trivalent verdazyl group or a tetravalent verdazyl group, which respectively has a radical on a nitrogen atom, or a compound having a triphenyl-verdazyl group is used. - 特許庁

化合物半導体を成長する方法において、窒素ラジカルビームを提供するための期間に、ゲートバルブ５７を開きまた窒素ラジカルビームを提供しない期間に、ゲートバルブ５７を閉じる。例文帳に追加

In a method for growing a chemical semiconductor, the gate valve 57 is opened in a period wherein a nitrogen radical beam is provided, and is closed in a period wherein the nitrogen radical beam is not provided. - 特許庁