nitrogen radicalとは 意味・読み方・使い方

Then, the layer is thermally treated in nitrogen radical to recover nitrogen electron hole defect in the surface layer of the AlGaN electron donor layer 14.例文帳に追加

その後，窒素ラジカル中で熱処理を行い，ＡｌＧａＮ電子供給層１４の表層の窒素空孔欠陥を回復させる。 - 特許庁

A nitrogen radical is formed by high frequency plasma, the formed nitrogen radical is supplied on a gas flow flowing along the surface of the oxide film or the oxynitride film formed by an ultraviolet light excitation radical on a substrate, and the film surface is nitrided.例文帳に追加

高周波プラズマにより窒素ラジカルを形成し、形成された窒素ラジカルを、基板上に紫外光励起ラジカルにより形成された酸化膜あるいは酸窒化膜表面に沿って流れるガス流に乗せて供給し、膜表面を窒化する。 - 特許庁

As this radical compound, a compound having a radical on a trivalent verdazyl group or a tetravalent verdazyl group, which respectively has a radical on a nitrogen atom, or a compound having a triphenyl-verdazyl group is used.例文帳に追加

含有されるラジカル化合物は、窒素原子上にラジカルを有する３価のフェルダジル基もしくは４価のフェルダジル基上にラジカルを有する化合物、トリフェニルフェルダジル基を有する化合物である。 - 特許庁

In the oxidative decomposition method, a nitrogen atom-containing component of a hardly decomposable nitrogen-based organic compound is subjected to oxidative decomposition by an OH radical.例文帳に追加

この酸化分解方法では、難分解性の窒素系有機化合物の窒素原子を含んだ構成成分を、ＯＨラジカルにて酸化分解する。 - 特許庁

As the source material 28, an organic source of TMG (trimethylgallium) or the like can be used, and as the nitrogen-containing gas, a nitrogen radical-containing gas can be used.例文帳に追加

ソース物質２８としては、ＴＭＧ（トリメチルガリウム）等の有機ソースを用いてもよく、窒素含有ガスとしては、窒素ラジカルを含むガスを用いてもよい。 - 特許庁

The catalyst for reducing nitrogen oxides in the presence of ammonia is composed of a zirconia/sulfate radical which contains iron.例文帳に追加

アンモニアの存在下に窒素酸化物を還元するための触媒を、鉄を含有する硫酸根ジルコニアで構成する。 - 特許庁

The method further includes generating at least one radical nitrogen precursor with a remote plasma system located outside the deposition chamber.例文帳に追加

さらに、堆積チャンバの外側に位置する遠隔プラズマシステムを用いて少なくとも１つのラジカル窒素前駆体を生成する。 - 特許庁

The method for cleaning the elements includes the steps of: providing a gas 155 containing nitrogen; generating nitrogen radicals from at least a part of the gas, thereby forming a radical containing gas 165; and providing at least a part of the radical containing gas to the one or more elements 100 of the apparatus.例文帳に追加

窒素を含むガス１５５を供給するステップと、当該ガスの少なくとも一部から窒素ラジカルを生成することにより、ラジカル含有ガス１６５を形成するステップと、当該ラジカル含有ガスの少なくとも一部をリソグラフィ装置の１つ以上の素子１００に供給するステップとを備える。 - 特許庁