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荷電スピンの英語

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英訳・英語 isobaric spin; isospin


機械工学英和和英辞典での「荷電スピン」の英訳

荷電スピン


「荷電スピン」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 10



例文

荷電スピン1の電気的に中性なバリオン例文帳に追加

an electrically neutral baryon with isotopic spin 1発音を聞く  - 日本語WordNet

荷電粒子ビーム描画装置およびアースピン例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE AND GROUNDING PIN - 特許庁

荷電粒子ビーム描画装置におけるアースピン及び荷電粒子ビーム描画方法例文帳に追加

GROUND PIN AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD IN CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS - 特許庁

アースピン、アースプレート、荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法例文帳に追加

GROUND PIN, GROUND PLATE, CHARGED PARTICLE BEAM-DRAWING SYSTEM, AND CHARGED PARTICLE BEAM-DRAWING METHOD - 特許庁

荷電粒子スピン検出器、顕微鏡、及び光電子分光装置例文帳に追加

CHARGED PARTICLE SPIN POLARIMETER, MICROSCOPE, AND PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY DEVICE - 特許庁

荷電粒子が持つ磁気モーメントを高効率で分解できる荷電粒子スピン検出器を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle spin polarimeter capable of resolving the magnetic moment of charged particles with high efficiency. - 特許庁

例文

荷電粒子ビーム描画においてマスクの接地に用いられるアースピンの材質、形状を最適化し、高い描画精度を得ることが可能なアースピン、アースプレート、荷電粒子描画装置および荷電粒子描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a ground pin, a ground plate, a charged particle beam-drawing system, and a charged particle beam-drawing method that can obtain high drawing precision by optimizing the material and shape of the ground pin used to ground a mask in charged particle beam drawing. - 特許庁

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JST科学技術用語日英対訳辞書での「荷電スピン」の英訳

荷電スピン


日英・英日専門用語辞書での「荷電スピン」の英訳

荷電スピン


「荷電スピン」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 10



例文

荷電粒子スピン検出器は、勾配を有する磁場を入射荷電粒子に対して印加するための一対の凸凹磁極201、202と、荷電粒子が磁場から受けるローレンツ力をキャンセルする電場を荷電粒子に印加する、一対の平板電極203とを装備する。例文帳に追加

The charged particle spin polarimeter has a pair of convex and concave magnetic poles for applying a magnetic field with gradient to an incident charged particle and a pair of flat plate electrodes to apply an electric field to a charged particle to cancel the Lorentz force that the charged particle receives from the magnetic field. - 特許庁

本発明によるアースピンは、荷電粒子ビーム描画に供される試料を接地するためのアースピン12であって、常磁性を示し、試料と接触する接触部12cが曲面を有する。例文帳に追加

The ground pin 12 is used to ground a sample to be subjected to charged particle beam drawing, and is paramagnetic, and a contact portion 12c which comes into contact with the sample has a curved surface. - 特許庁

例文

マスクに荷電粒子ビームを照射して所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置であって、額縁状のフレーム10aにアースピン10cを垂設して成るアース体10をマスクWにセットして描画を行うものにおいて、マスクにその種類に応じたアース体をセットでき、且つ、スループットの低下も防止できるようにする。例文帳に追加

To provide a charged particle beam drawing device for drawing a predetermined pattern by irradiating a mask with a charged particle beam for drawing an image by setting a grounding body 10 comprising a grounding pin 10c vertically installed in a frame-like frame 10a on a mask W in which a grounding body corresponding to the type of the mask can be set and deterioration in throughput can be prevented. - 特許庁

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