2塩化メチレンの英語

抑制層２を、記録用光導電層３の表面にポリカーボネートを低沸点の塩化メチレンを使用して塗布し、常温乾燥させることにより製膜する。例文帳に追加

An inhibitory layer 2 is formed on the surface of a photoconductive layer 3 for recording by applying a polycarbonate using low boiling point methylene chloride and carrying out drying at room temperature. - 特許庁

ポリヘキサメチレンビグアナイド系化合物、塩化ベンザルコニウム、エタノール、プロピレングリコール、及び水を含む薬液を、表面に凹凸２，３を有する不織布基材１に含有させて、抗菌性を有するウェットタイプ拭き取り用品とする。例文帳に追加

In the pre-moistened wiping material with bactericidal effects, a nonwoven fabric substrate 1 whose surface has concavities and convexities 2, 3 contains a chemical solution containing a poly hexamethylene biguanide-based compound, benzalkonium chloride, propylene glycol and water. - 特許庁

ジエン系ゴムに対して、フェノール樹脂および／または変性フェノール樹脂、硫黄、ヘキサメチレンテトラミン、加硫促進剤、ならびにシトラコンイミド化合物、アルキルフェノール・塩化硫黄縮合物、有機チオスルフェート化合物および一般式Ｒ^1−Ｓ−Ｓ−Ａ−Ｓ−Ｓ−Ｒ^2で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の加硫促進補助剤を含有するビードエイペックス用ゴム組成物。例文帳に追加

The rubber composition for bead apex comprises a diene rubber, a phenolic resin and/or modified phenolic resin, sulfur, hexamethylenetetramine, a vulcanization accelerator and at least one vulcanization accelerator auxiliary agent selected from the group consisting of a citraconimide compound, an alkylphenol/sulfur chloride condensate, an organic thiosulfate compound and a compound expressed by general formula R^1-S-S-A-S-S-R^2. - 特許庁

また、アルカリの添加量はＰＭＤＡのアミノ基当量の０．５０倍当量以上であり、ＰＭＤＡ相中の水分濃度は７０ｗｔ％以下、ペンタメチレンジアンモニウムイオン［（Ｃ_５Ｈ_１０（ＮＨ_３^＋）_２］以外のイオンの濃度は１０ｗｔ％以下、塩化物イオン濃度は４ｗｔ％以下であり、ＰＭＤＡの単離は蒸留によって行われる。例文帳に追加

The amount of the added alkali is ≥0.50 times equivalent of the amino group equivalent, the water concentration in the PMDA phase is ≤70 wt.% and the concentration of ions except pentamethylene diammonium ion [C_5H_10(NH_3^+)_2] is ≤10 wt.%, the concentration of chloride ions is ≤4 wt.% and PMDA is isolated by distillation. - 特許庁