Independent chuckとは 意味・読み方・使い方

This chuck comprises the upper chuck assembly element 180 having a top surface 198 that holds a wafer, and a chuck spacing device including three independent pins 204 which form a clearance between the upper chuck assembly element 180 and a central chuck assembly element 182 under the element 180.例文帳に追加

このチャックはウエハを支持するようにした上面１９８を有する上部チャック組立体素子１８０を具え、更に、上部チャック組立体素子と、その下の中央チャック組立体素子１８２との間に、間隔を画成する３個の独立したピン２０４を有し、上部チャック組立体素子１８０に連結されたチャック離間装置とを具える。 - 特許庁

The substrate holding chuck 30 sucking a substrate W to the tip of the end effectors 32 and/or the end effector 32 of the substrate holding chuck 30 not sucking the substrate W is position-controlled by the independent or synchronous rotation operation of the drive motor corresponding to the substrate holding chuck 30.例文帳に追加

そして各基板保持チャック３０に対応した駆動モータの独立あるいは同期回転動作により、エンドエフェクタ３２先端に基板Ｗを吸着した基板保持チャック３０及び／または基板Ｗを吸着しない基板保持チャック３０のエンドエフェクタ３２の位置制御を行うようにした。 - 特許庁

A mask holder having a plurality of independent holder portions 24a and 24b for holding the periphery of a mask 2 holds the mask 2 such that it face the substrate 1 held by the chuck 10.例文帳に追加

マスクホルダは、マスク２の周辺部を保持する複数の独立したホルダ部２４ａ，２４ｂを有し、マスク２をチャック１０に保持された基板１へ向き合わせて保持する。 - 特許庁

A step where a surface brush 41 for cleaning the suction surface of a work chuck 12 is used to clean the suction surface, and a step where a side brush 51 which is changeable independent of the surface brush 41 is used to clean the side of the work chuck 12, are simultaneously conducted for a predetermined time.例文帳に追加

ワークチャック１２の吸着面を洗浄するための表面ブラシ４１で吸着面を洗浄する工程と、表面ブラシ４１とは独立して変位可能な側面ブラシ５１で、ワークチャック１２の側面を洗浄する工程とを、所定時間同時に行う。 - 特許庁

A rib is formed at a rear face of a dielectric ceramics that breaks up the rear face into multiple independent closed partitions, and an electrode film for the electrostatic chuck is formed at a concave underside surrounded by the rib.例文帳に追加

誘電体セラミックスの裏面に、該裏面を独立した複数の閉じられた区域に分割するリブが形成されてなり、該リブが取囲む凹部底面に静電チャックの電極被膜が形成されてなる。 - 特許庁

In an electrostatic chuck formed with an insulative layer for covering an upper face of an adsorptive electrode, the suction electrode comprises a plurality of suction electrodes, a density of intermediate lines at an equal distance from the adsorptive electrodes is 100-5,000/m in a region in which independent adsorptive electrodes face each other, and a withstand voltage between the adsorptive electrodes is ≥2 kV.例文帳に追加

吸着電極の上面を覆うように絶縁層を形成した静電チャックにおいて、上記吸着電極は独立した複数の吸着電極からなり、上記の独立した吸着電極が対向する領域で該吸着電極から等距離にある中間線の密度を１００〜５０００／ｍで、上記吸着電極間の耐電圧が２ｋＶ以上とする。 - 特許庁