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PHYSICAL VAPOR DEPOSITIONとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 物理蒸着
「PHYSICAL VAPOR DEPOSITION」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 229件
ELECTRON BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
電子ビ—ム物理蒸着装置 - 特許庁
The physical vapor deposition may be ion-enhanced electron beam physical vapor deposition.例文帳に追加
物理蒸着は、イオン強化電子ビーム物理蒸着とすることができる。 - 特許庁
The physical vapor deposition method is a pulse laser deposition method.例文帳に追加
前記物理蒸着法はパルスレーザ蒸着法である。 - 特許庁
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ウィキペディア英語版での「PHYSICAL VAPOR DEPOSITION」の意味 |
Physical vapor deposition
出典:『Wikipedia』 (2011/04/13 04:53 UTC 版)
「PHYSICAL VAPOR DEPOSITION」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 229件
A diamond-like carbon thin film D is applied onto a sliding face S2 of an outer clutch plate 34b by known methods such as a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, a PVD (Physical Vapor Deposition) method and an ion vapor deposition method.例文帳に追加
アウタクラッチプレート34bの摺動面S2にCVD(Chemical Vapor Deposition )法、PVD(Physical Vapor Deposition )法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Dを施す。 - 特許庁
VACUUM CHAMBER FOR PHYSICAL VAPOR DEPOSITION, PHYSICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, THIN FILM DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加
物理蒸着真空チャンバ、物理蒸着方法、薄膜デバイスおよび液晶ディスプレイ - 特許庁
As a method for the vapor deposition may be either physical vapor deposition (PVD) method or chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加
蒸着させる方法としては、物理蒸着法(PVD)でも化学蒸着法(CVD)でもよい。 - 特許庁
A DLC-Si thin film D is applied to a sliding surface S2 of an outer clutch plate 34b by publicly known method such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method, PVD (Physical Vapor Deposition) method and Ion Deposition method or the like.例文帳に追加
アウタクラッチプレート34bの摺動面S2にCVD(ChemicalVapor Deposition )法、PVD(Physical Vapor Deposition )法、イオン蒸着法等の公知の方法によりDLC−Si薄膜Dを施す。 - 特許庁
On a slide surface S2 of an outer clutch plate 34b, a diamond- like carbon thin film D is applied by a known method such as a CVD(Chemical Vapor Deposition) method, a PVD(Physical Vapor Deposition) method, and an ion deposition method.例文帳に追加
アウタクラッチプレート34bの摺動面S2にCVD(ChemicalVapor Deposition )法、PVD(Physical Vapor Deposition )法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Dを施す。 - 特許庁
It is preferable to form the bonding coat 24 by physical vapor deposition, such as magnetron sputtering, electron beam physical vapor deposition, jet vapor deposition, and plasma thermal spraying.例文帳に追加
ボンディングコート(24)は好ましくはマグネトロンスパッタ法、電子ビーム物理蒸着、ジェット蒸着、プラズマ溶射等の物理蒸着法で形成される。 - 特許庁
TARGET FOR PHYSICAL VAPOR DEPOSITION AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
物理的蒸着用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁
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