Radical 190とは 意味・読み方・使い方

The modified crushed vulcanized rubber is produced by mixing and reacting the crushed vulcanized rubber, a compound having nitroxide free radical and a radical initiation agent using a hot mixer at 160-190°C.例文帳に追加

粉砕加硫ゴム、ニトロキシドフリーラジカルを有する化合物およびラジカル開始剤を、加熱混合機を用いて160〜190℃の温度で混合し、反応させて、変性粉砕加硫ゴムを製造する。 - 特許庁

As necessary, the modified crushed vulcanized rubber is further incorporated with a radical polymerizable monomer containing an alkoxysilyl group or aryloxysilyl group and mixed and reacted at 160-190°C.例文帳に追加

必要に応じて、この変性粉砕加硫ゴムに、さらにアルコキシシリル基またはアリールオキシシリル基含有ラジカル重合性モノマーを添加し、160〜190℃の温度で混合し、反応させることも行われる。 - 特許庁

The protective film is made from a polyethylene film which is obtained by pressurizing ethylene with an ultra high pressure compressor and polymerizing the ethylene at a reaction temperature of 190-300°C under a reaction pressure of ≥167 MPa in the presence of a radical polymerization initiator or by pressurizing ethylene with an ultra high pressure compressor and polymerizing the ethylene at a reaction temperature of 190-300°C in the coexistence of a radical polymerization inhibitor.例文帳に追加

超高圧圧縮機によりエチレンを昇圧し、ついでラジカル重合開始剤の存在下、反応温度１９０℃〜３００℃、反応圧力１６７ＭＰａ以上でエチレンを重合するか、または超高圧圧縮機によりエチレンを昇圧し、ついでラジカル重合開始剤の存在下、反応温度１９０℃〜３００℃でエチレンを重合するに際し、反応系内にラジカル重合禁止剤を共存させることにより得られるポリエチレンフィルムをプロテクトフィルムとして用いる。 - 特許庁

As a protecting film is used the polyethylene which is manufactured by polymerizing ethylene at a reaction temperature between 190 and 300°C and under a reaction pressure at 167 MPa or higher in the presence of a radical polymerization initiator, while maintaining its temperature at 95°C at the highest or lower in a super high pressure compressor.例文帳に追加

超高圧圧縮機におけるエチレンの温度を最高でも９５℃以下に保った上でエチレンをラジカル重合開始剤の存在下、反応温度１９０℃〜３００℃、反応圧力１６７ＭＰａ以上で重合することにより得られるポリエチレンをプロテクトフィルムとして用いる。 - 特許庁

In quartz glass synthesized by the direct method using raw materials comprising organosilicon compounds, the quartz glass having an internal absorption coefficient of ≤0.001 cm-1 in the wavelength region of ≥190 nm is obtained by suppressing the concentration of formyl radicals formed in the inside of the quartz glass by X-ray irradiation to be not more than 2×1014 radical/cm3.例文帳に追加

有機ケイ素化合物からなる原料ガスを用いて直接法によって合成された石英ガラスにおいて、Ｘ線を照射したときに石英ガラス内部に生成するホルミルラジカルの濃度を２×１０^14個／ｃｍ^3以下とすることにより、１９０ｎｍ以上の波長領域において内部吸収係数が０．００１ｃｍ^-1以下を達成した石英ガラスが得られる。 - 特許庁