Radical 7とは 意味・読み方・使い方

A first oxide film 9 is formed on a semiconductor substrate 1 so as to cover first transfer electrodes 7 which are formed on the semiconductor substrate 1 by plasma radical oxidation.例文帳に追加

プラズマ・ラジカル酸化により半導体基板１上に形成した第１転送電極７を覆う状態で、半導体基板１上に第１酸化膜９を成膜する。 - 特許庁

The electrostatic atomization section 4 is composed to atomize the electrolytic water that contains the hydroxy radical or the hypochlorous acid generated by the electrolytic water generating section 7.例文帳に追加

そして、静電霧化部４は電解水生成部７により生成されたヒドロキシラジカル又は次亜塩素酸を含む電解水を霧化させるように構成されている。 - 特許庁

An OH radical, whose oxidizability is larger than ozone is generated from ozone (O_3) supplied into the treatment chamber 7 by the operation of the ultraviolet rays that the ultraviolet lamp 22 irradiates.例文帳に追加

この紫外線ランプ２２が照射する紫外線の働きにより処理チャンバ７内に供給されるオゾン（Ｏ_3）からオゾンよりも酸化力の強いＯＨラジカルが生成される。 - 特許庁

This resin composition contains 0.001-7 parts mass radical inhibitor per 100 parts mass resin composition comprising a polyester resin (A), and a vinyl polymer (B) containing not less than 1 mass % unit having a polar group.例文帳に追加

ポリエステル樹脂(A) 、極性基を有するユニットを1 質量% 以上含有するビニル重合体(B) からなる樹脂組成物100 質量部に対してテトラフルオロエチレン含有粉体及びラジカル禁止剤0.001 〜7 質量部を含有する樹脂組成物。 - 特許庁

A method comprises supplying an effective amount of a free radical polymerization inhibitor to the cyclotetrasiloxane expressed by the formula (R^1 to R^7 are each H, a 1-10C alkyl or a 1-4C alkoxy).例文帳に追加

次の式で表されるシクロテトラシロキサン（Ｒ^１−７は、水素、Ｃ_１−１０アルキル基、またはＣ_１−４アルコキシ基）に有効量の有離基重合抑制剤を供給する。 - 特許庁

The oxygen radical causes chemical reaction with contaminants adhering to printed substrates in a magazine 7 and discharged through a discharge port 1C formed in the rear wall of the vacuum chamber 1.例文帳に追加

そして、ラジカル化された酸素がマガジン７内のプリント基板６に付着している汚染物質と化学反応を起こして、真空チャンバー１の後壁に開設された排出口１Ｃを介して排出される。 - 特許庁

A film pattern 11a to be oxidized is formed above the first oxide film 9 to cover the first transfer electrodes 7, and the film pattern 11a to be oxidized is turned to an oxide film pattern 11b by plasma radical oxidation.例文帳に追加

第１転送電極７上を覆う被酸化膜パターン１１ａを第１酸化膜９上に形成し、プラズマ・ラジカル酸化によって被酸化膜パターン１１ａを酸化膜パターン１１ｂとする。 - 特許庁

The optical disk 1 has a structure wherein a first substrate 5, a reflection layer 7, an oxygen barrier layer 9, a recording layer 11 consisting of a hologram recording material of a radical polymerization type, an oxygen barrier layer 13 and a second substrate 15 are layered.例文帳に追加

光ディスク１は、第１基板５、反射層７、酸素バリア層９、ラジカル重合型のホログラム記録材料からなる記録層１１、酸素バリア層１３、第２基板１５が積層された構造をしている。 - 特許庁