Shaping Apertureとは 意味・読み方・使い方

Accordingly, an image on a cathode surface on a shaping aperture is enlarged, thereby improving the illumination uniformity.例文帳に追加

従って、シェーピングアパーチャ上におけるカソード面の像を拡大することでき、それに予より、照明一様性が向上する。 - 特許庁

An aperture 51, shaping the outer shape of the laser beam LB by making the beam pass through a prescribed opening 51a, is installed in the laser light source 20.例文帳に追加

レーザ光源２０には、レーザ光ＬＢの外形形状を所定の開口部５１ａを通過させることによって整形するアパーチャ５１を設ける。 - 特許庁

The bending roller (13) mounted to a radially movable slider (11) is movable from a position defining a maximum working aperture for the shaping tool into a position defining a minimum working aperture for the shaping tool, by means of a spring-load lever (9) having an axial configuration.例文帳に追加

曲げローラ（１３）は、半径方向に動くことができるスライダ（１１）に取り付けられ、曲げローラ（１３）は、軸方向形態を備えたばね押しレバー（９）によって、付形ツールのための最大作業アパーチャを定める位置から付形ツールのための最小作業アパーチャを定める位置に動くことができる。 - 特許庁

The bending roller (13) mounted on a radially movable slider (11) is movable from a position defining a maximum working aperture for the shaping tool into a position defining a minimum working aperture for the shaping tool, by means of a spring-loaded lever (9) having an axial configuration.例文帳に追加

曲げローラ（１３）は、半径方向に動くことができるスライダ（１１）に取り付けられており、曲げローラ（１３）は、軸方向形態を備えたばね押しレバー（９）によって、付形ツールのための最大作業アパーチャを定める位置から付形ツールのための最小作業アパーチャを定める位置に動くことができる。 - 特許庁

The shaping aperture 4 is composed of a BAA and only an electron beam passed through the unit aperture of the BAA illuminates a specified sub-field of view on the reticle 6 through deflectors 51 and 52.例文帳に追加

成型開口４はＢＡＡから構成されており、開となっているＢＡＡの単位開口を通過した電子線のみが、偏向器５１、５２によりレチクル６上の所定の副視野を照明する。 - 特許庁

Furthermore, a shielding aperture 15 formed of thick-walled conductor is provided at a position which is located below the shaping aperture 9 and at which a shaped charged particle beam flux forms a crossover.例文帳に追加

さらに、シェーピングアパーチャ９より下流側の、成形された荷電粒子線束がクロスオーバーを形成する位置に、厚肉導体からなる遮蔽アパーチャ１５を有する。 - 特許庁

Charged particles scattered downward from the shaping aperture 9 are blocked by the shielding aperture 15, so that the scattered charged particles are prevented from reaching to the wafer 27.例文帳に追加

シェーピングアパーチャ９から下方に向かって散乱された荷電粒子は、遮蔽アパーチャ１５で遮蔽され、散乱された荷電粒子がウエハ２７に達することを防ぐ。 - 特許庁

The optical element for shaping a beam spot gives a prescribed deflection angle difference between the first deflection angle of first luminous flux emitted from the central part of an effective aperture and the second deflection angle of second luminous flux emitted from the outer peripheral part of the effective aperture.例文帳に追加

有効開口の中心部から出射する第１の光束の第１の偏角と有効開口の外縁部から出射する第２の光束の第２の偏角とに所定の偏角差を与えるビームスポット整形用光学素子である。 - 特許庁