「Shaping Aperture」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A shaping aperture 4 is irradiated with an emitted electron beam 2 from an electron source 1 by operation of a first irradiation lens 31.例文帳に追加

電子源１を出た電子線２は、第１照射レンズ３１によって成形開口４を照明する。 - 特許庁

Furthermore, a shielding aperture 15 formed of thick-walled conductor is provided at a position which is located below the shaping aperture 9 and at which a shaped charged particle beam flux forms a crossover.例文帳に追加

さらに、シェーピングアパーチャ９より下流側の、成形された荷電粒子線束がクロスオーバーを形成する位置に、厚肉導体からなる遮蔽アパーチャ１５を有する。 - 特許庁

Charged particles scattered downward from the shaping aperture 9 are blocked by the shielding aperture 15, so that the scattered charged particles are prevented from reaching to the wafer 27.例文帳に追加

シェーピングアパーチャ９から下方に向かって散乱された荷電粒子は、遮蔽アパーチャ１５で遮蔽され、散乱された荷電粒子がウエハ２７に達することを防ぐ。 - 特許庁

Accordingly, an image on a cathode surface on a shaping aperture is enlarged, thereby improving the illumination uniformity.例文帳に追加

従って、シェーピングアパーチャ上におけるカソード面の像を拡大することでき、それに予より、照明一様性が向上する。 - 特許庁

The bending roller (13) mounted to a radially movable slider (11) is movable from a position defining a maximum working aperture for the shaping tool into a position defining a minimum working aperture for the shaping tool, by means of a spring-load lever (9) having an axial configuration.例文帳に追加

曲げローラ（１３）は、半径方向に動くことができるスライダ（１１）に取り付けられ、曲げローラ（１３）は、軸方向形態を備えたばね押しレバー（９）によって、付形ツールのための最大作業アパーチャを定める位置から付形ツールのための最小作業アパーチャを定める位置に動くことができる。 - 特許庁

The shaping aperture 4 is composed of a BAA and only an electron beam passed through the unit aperture of the BAA illuminates a specified sub-field of view on the reticle 6 through deflectors 51 and 52.例文帳に追加

成型開口４はＢＡＡから構成されており、開となっているＢＡＡの単位開口を通過した電子線のみが、偏向器５１、５２によりレチクル６上の所定の副視野を照明する。 - 特許庁

An aperture 51, shaping the outer shape of the laser beam LB by making the beam pass through a prescribed opening 51a, is installed in the laser light source 20.例文帳に追加

レーザ光源２０には、レーザ光ＬＢの外形形状を所定の開口部５１ａを通過させることによって整形するアパーチャ５１を設ける。 - 特許庁

An electron beam 2 emitted from an electron beam source 1 illuminates a shaping aperture 4 uniformly through a first illumination lens 31 and a second illumination lens 32.例文帳に追加

電子線源１から放出された電子線２は、第１照明レンズ３１、第２照明レンズ３２によって成形開口４を一様に照明する。 - 特許庁

The bending roller (13) mounted on a radially movable slider (11) is movable from a position defining a maximum working aperture for the shaping tool into a position defining a minimum working aperture for the shaping tool, by means of a spring-loaded lever (9) having an axial configuration.例文帳に追加

曲げローラ（１３）は、半径方向に動くことができるスライダ（１１）に取り付けられており、曲げローラ（１３）は、軸方向形態を備えたばね押しレバー（９）によって、付形ツールのための最大作業アパーチャを定める位置から付形ツールのための最小作業アパーチャを定める位置に動くことができる。 - 特許庁

A shaping aperture 9 provided to a charged particle beam is formed of a conductor thin film which transmits a charged particle beam effectively scattered without absorbing most of it.例文帳に追加

本発明の荷電粒子線光学系のシェーピングアパーチャ９は、荷電粒子線がほとんど吸収されることなく散乱されて通過する導体薄膜からなる。 - 特許庁

The optical element for shaping a beam spot gives a prescribed deflection angle difference between the first deflection angle of first luminous flux emitted from the central part of an effective aperture and the second deflection angle of second luminous flux emitted from the outer peripheral part of the effective aperture.例文帳に追加

有効開口の中心部から出射する第１の光束の第１の偏角と有効開口の外縁部から出射する第２の光束の第２の偏角とに所定の偏角差を与えるビームスポット整形用光学素子である。 - 特許庁

At this time, the nonuniform temperature distribution of the emitter, and effect in which the crossover position 7 deviates from the position of the aperture 3, operate so that the current distribution of a shaping aperture 5 projects, and the strong geometrical aberration of the lens 4 operates so that the illumination distribution is recessed.例文帳に追加

この時、エミッタ上の非一様な温度分布と、クロスオーバ位置７とトリムアパーチャ３の位置がずれている効果はシャーピングアパーチャ５の電流分布を凸にするように働き、レンズ４の強い幾何収差は照明分布を凹にするように働く。 - 特許庁

The electron beam EB is projected through an electron optical system 12 comprising a converging electron lens, various deflectors and a shaping aperture (not shown), and through a mask 13 to a substrate 17 supported on an exposure stage 16.例文帳に追加

電子ビームＥＢは、収束用の電子レンズや各種の偏向器や成形アパーチャ等（図示せず）を介する電子光学系１２、さらにマスク１３を介して露光ステージ１６に支持された基材１７に照射される。 - 特許庁

This charged particle beam drawing device 1 includes: an electron gun 2 for emitting an electron beam; and an aligner 14, a blanking electrode 6, a deflector 7 and a first shaping aperture 11 which are sequentially arranged in the downstream direction of the beam axis of the electron beam 15.例文帳に追加

電子ビーム描画装置１は、電子ビームを照射する電子銃２と、電子ビーム１５のビーム軸の下流方向に順次配置されたアライナ１４と、ブランキング電極６と、偏向器７と、第１成形アパーチャ１１とを有する。 - 特許庁

The optical scanner 23 includes the light source 61 for emitting the beam LB, an aperture 63 with an opening 63a for shaping the beam LB emitted from the light source 61, a reduction optical part 64 for reducing the beam LB shaped by the aperture 63, and a collimator 62 arranged between the light source 61 and the reduction optical part 64 for collimating the beam LB.例文帳に追加

光走査装置２３は、ビームＬＢを出射する光源６１と、光源６１から出射されたビームＬＢを整形する開口部６３ａが設けられたアパーチャ６３と、アパーチャ６３で成形されたビームＬＢを縮小する縮小光学部６４と、光源６１から縮小光学部６４までの間に配置され、ビームＬＢを平行化するコリメータ６２とを備える。 - 特許庁

To provide a shielded connector provided with a shield shell manufacturable by a method of shaping, by bending a material obtained by punching a metal plate of an expanded shape, a shield shell of a shape having a step between a housing storage part and a tube connection part by the difference of aperture size.例文帳に追加

口径の大きさ違いによりハウジング収容部とチューブ接続部との間に段差を有した形状のシールドシェルを、金属板を打ち抜いた展開形状のものに曲げ加工を施すことにより成形する方法で製作することが可能なシールドシェルを備えたシールドコネクタを提供すること。 - 特許庁

In the electron beam lithography apparatus 1, electron beam drawing is performed by irradiating a specimen with the electron beam 6 shaped by the shaping aperture, abnormalities of the electron beam 6 are detected based on a change in the amount of a current detected by the detector, and electron beam drawing of the specimen is stopped by determining occurrence of abnormalities.例文帳に追加

電子ビーム描画装置１では、成形アパーチャで成形された電子ビーム６を照射して試料上に電子ビーム描画をするとともに、検出器で検出される電流量の変化に基づいて、電子ビーム６の異常を感知し、異常発生を判断して試料への電子ビーム描画を停止するようにする。 - 特許庁

In addition, the coating machine is provided with a speed distribution-adjusting means (13) which adjusts the distribution of shaping air jetting speeds, in accordance with a coating pattern to be formed, by changing the aperture shape of the outer lip (11) to partially change the aperture width of the circular slit (7).例文帳に追加

回転霧化頭（５）が取り付けられた塗装機本体（２）の先端側に、回転霧化頭（５）の背面側からシェーピングエアを吹き出す環状スリット（７）が形成されて成り、その環状スリット（７）が環状のインナーリップ（１０）及びアウターリップ（１１）で形成され、アウターリップ（１１）の開口形状を変化させて環状スリット（７）の開口幅を部分的に変化させることにより、形成しようとする塗装パターンの形状に応じてシェーピングエアの吹出速度の分布を調整する速度分布調整手段（１３）を備えた。 - 特許庁