成形アパーチャの英語

第１のアパーチャ１７の第１象限と、第２のアパーチャ１８の第３象限とを透過させることにより、電子ビーム５４は矩形状に成形される。例文帳に追加

An electron beam 54 is shaped into a rectangular shape by passing through the first quadrant of the first aperture 17 and the third quadrant of the second aperture 18. - 特許庁

一方、第１のアパーチャ１７の第３象限と第２のアパーチャ１８の第１象限を透過させることにより、電子ビーム５４は紡錘形の断面形状に成形される。例文帳に追加

Meanwhile, the electron beam 54 is shaped into a spindle-like cross-sectional shape by passing through the third quadrant of the first aperture 17 and the first quadrant of the second aperture 18. - 特許庁

質量分析計１１、１２及び１３の各センサ部１１ａ、１２ａ及び１３ａは、成形アパーチャ２５、マスクステージ３５及び散乱制限アパーチャ２２付近にそれぞれ個別に取り付けられている。例文帳に追加

The sensor parts 11a, 12a and 13a of the mass spectrometers 11, 12 and 13 are individually fitted to the vicinity of a forming aperture 24, a mask stage 33 and a scatter restriction aperture 22. - 特許庁

この予備成形組成物は、ＥＭＩ／ＲＦＩ遮蔽効果を有するアパーチャをシールするために使用され得る。例文帳に追加

The preformed composition can be used to seal an aperture having EMI/RFI shielding effectiveness. - 特許庁

第１成形アパーチャ６にサイズの異なる複数の矩形開口を設け、それに合わせて、第２成形アパーチャ１１にサイズの異なる複数のキャラクタ開口を設けるため、回路パターンに応じて最適な開口サイズを選択することができ、ショット数の削減が図れる。例文帳に追加

Since several rectangle openings from which size differs are provided in the first formation aperture 6 and several character openings from which size differs in the second formation aperture 11 are provided according to it, the optimal opening size can be selected according to the circuit pattern, and the reduction of the number of shots can be attained. - 特許庁

第１成形アパーチャ８上のビーム電流分布傾向を第１の偏向手段２により偏向された複数の偏向状態において測定し、それらの測定値をもとに第１の偏向手段２にフィードバックを行うことで、制限アパーチャ４の開口部と制限アパーチャ４上のビームの電流密度分布の位置関係に関する調整を行う。例文帳に追加

The tendency of beam current distribution on a first formation aperture 8 is measured in a plurality of deflection states deflected by a first deflection means 2, and feedback is made to the first deflection means 2 according the measurement value, thus making an adjustment regarding the position relationship between the opening of a limitation aperture 4 and the current density distribution of beams on the limitation aperture 4. - 特許庁

第２照射手段２００は、第２のレーザ光２１０を出射するレーザ発振器２０１と、第２のレーザ光２１０が照射されて所望のアパーチャ像を成形する開口絞り板２０６と、アパーチャ像をガラス基板１０の主表面に結像する対物レンズ２０７とを有している。例文帳に追加

The second irradiating means 200 comprises a laser oscillator 201 emitting a second laser beam 210, an aperture stop plate 206 being irradiated with the second laser beam 210 to form a desired aperture image, and an objective lens 207 for focusing the aperture image on the major surface of the glass substrate 10. - 特許庁

荷電ビーム描画装置１は、荷電ビーム発生装置３、コンデンサーレンズ４、投影レンズ５、複数個のアパーチャー６、複数個のアパーチャー支持具７、ビーム成形用偏向器８、対物レンズ９、対物偏向器１０、複数個のアライナー１１、および複数個の鏡筒１２を具備する。例文帳に追加

The charged particle beam exposure system 1 comprises a charge beam generator 3, a condenser lens 4, a projection lens 5, a plurality of apertures 6, a plurality of aperture support tools 7, a deflector for forming beams 8, an objective lens 9, an objective deflector 10, a plurality of aligners 11, and a plurality of lens tubes 12. - 特許庁