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Substrate-to-Substrate Uniformityとは 意味・読み方・使い方
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「Substrate-to-Substrate Uniformity」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 797件
To improve the uniformity of substrate processing intra substrate surface and inter substrates.例文帳に追加
基板面内及び基板間における基板処理の均一性を向上させる。 - 特許庁
To provide a technology for improving thermal uniformity of a substrate in a substrate processing apparatus and a substrate processing method for heating the substrate while conveying the substrate.例文帳に追加
基板を搬送しつつ加熱する基板処理装置および基板処理方法において、基板の熱均一性を向上させる技術を提供する。 - 特許庁
To uniformly supply gas to a substrate and to improve the uniformity of the thickness of a film formed on the substrate.例文帳に追加
基板への均一なガス供給を実現して、基板に成膜される膜厚均一性を向上する。 - 特許庁
To provide equipment for treating a substrate in which uniformity of plasma treatment applied to the substrate can be enhanced.例文帳に追加
基板に施すプラズマ処理の均一性を向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To improve the line width uniformity of patterns formed on a substrate.例文帳に追加
基板に形成されるパターンの線幅均一性を向上させること。 - 特許庁
To improve uniformity of plasma processing on a substrate surface.例文帳に追加
基板表面におけるプラズマ処理の均一性を向上させる。 - 特許庁
To provide a silicon carbide substrate which can be polished with high in-plane uniformity.例文帳に追加
高い面内均一性で研磨され得る炭化珪素基板を提供する。 - 特許庁
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「Substrate-to-Substrate Uniformity」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 797件
The high gass pressure crosses the substrate to improve the uniformity of the thickness in the treatment.例文帳に追加
高いガス圧が基板を横切って処理の厚さの均一性を改善する。 - 特許庁
To provide a substrate mounting mechanism capable of additionally improving temperature uniformity.例文帳に追加
温度均一性を、さらに向上できる基板載置機構を提供すること。 - 特許庁
To provide a substrate heat treatment device for improving uniformity in heat treatment.例文帳に追加
熱処理の均一性を向上させる基板熱処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device having excellent uniformity of inter-substrate spacing.例文帳に追加
基板間隔の均一性に優れた液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁
To improve the uniformity of light exposure on a substrate after the light exposure.例文帳に追加
露光後の基板上の露光量均一性を良好にする。 - 特許庁
To obtain satisfactory temperature uniformity in a substrate surface.例文帳に追加
基板面内において良好な均熱性を得ることを可能とする。 - 特許庁
To improve temperature uniformity of a substrate in a thermal processing apparatus.例文帳に追加
熱処理装置において基板の温度均一性を向上する。 - 特許庁
To improve a uniformity of a thickness of a thin film formed on a substrate.例文帳に追加
基板上に形成する薄膜の厚さの均一性を向上させる。 - 特許庁
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