Substrate Thickness Detectorとは 意味・読み方・使い方

A substrate 2 of the light detector 22 is formed of a low alkali glass having 0.7 mm of thickness.例文帳に追加

光検出器２２の基板２は、０．７ｍｍの厚さの低アルカリガラスよりなる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a two-dimensional image detector, which is superior in the uniformity of the film thickness and composition of a phototoconductive layer over the whole substrate, and a method of manufacturing the detector with satisfactory productivity (efficiently) and at a low cost.例文帳に追加

基板全体における光導電層の膜厚および組成の均一性に優れた二次元画像検出器、並びに、該二次元画像検出器を生産性良く（効率的に）かつ安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁

A flow rate detector 30 and a heater 40 are formed on the diaphragm 10 formed on the cavity part 1a of a semiconductive substrate 1 and the film thickness of the flow rate detector 30 is made less than that of the heater 40.例文帳に追加

半導体基板１の空洞部１ａの上に形成されたダイヤフラム１０に流量検出体３０とヒータ４０とが形成されており、流量検出体３０の膜厚がヒータ４０の膜厚より薄くなっている。 - 特許庁

The semiconductor radiation detector includes a flexible substrate, a shielding plate opposing to the flexible substrate, a semiconductor crystal between a pair of the flexible substrate and the shielding plate, and a base plate provided on a side face side of the semiconductor crystal to form the semiconductor radiation detector having reduced thickness while holding sufficient assembly strength.例文帳に追加

本発明は、フレキシブル基板と、該フレキシブル基板に相対する遮蔽板と、一対の前記フレキシブル基板と前記遮蔽板の間に、半導体結晶と、該半導体結晶の側面側に設けられたベース板を備えることを特徴とする。 - 特許庁

A film thickness detector 80 acquires film thickness information indirectly showing the state of a thin film formed on a sheet film (substrate) 8 and gives the information to a control unit 3.例文帳に追加

膜厚検出器８０がシートフィルム（基材）８に形成された薄膜の状態を間接的に示す膜厚情報を取得し、これを制御部３に与える。 - 特許庁

In short, the manufacturing method of this detector is a method, where after the layer 2 is formed into a prescribed film thickness on the transfer substrate, the layer 2 is transferred on the substrate 1.例文帳に追加

つまり、二次元画像検出器の製造方法は、転写基板上で所定の膜厚に光導電層２を形成した後、該光導電層２を上記アクティブマトリクス基板１上に転写する方法である。 - 特許庁

A two-dimensional image detector is constituted into a structure, where the detector is provided with at least an active matrix substrate 1 having a plurality of pixel electrodes 10, etc., and a photoconductive layer 2 laminated on the electrodes 10, etc., and the layer 2 is transferred on the substrate 1, after being formed into a prescribed film thickness on a transfer substrate.例文帳に追加

二次元画像検出器は、複数の画素電極１０…を有するアクティブマトリクス基板１と、上記画素電極１０…に積層された光導電層２とを少なくとも備えており、上記光導電層２が、転写基板上で所定の膜厚に形成された後、上記アクティブマトリクス基板１上に転写されることにより構成されている。 - 特許庁