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substrate technologyとは 意味・読み方・使い方
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「substrate technology」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 450件
SUBSTRATE FOR THICK FILM TECHNOLOGY AND CIRCUIT BOARD例文帳に追加
厚膜技術用基板及び回路基板 - 特許庁
To provide a technology of suppressing the occurrence of a breakage otherwise caused to a substrate by reducing speed in revolutions for the substrate required for drying the substrate.例文帳に追加
基板の乾燥に必要な基板の回転を低速化し、基板の破損を抑制する。 - 特許庁
To form a quantum wire of nanometer size using a semiconductor substrate, e.g. an Si substrate, and genera film deposition technology, lithography technology and etching technology.例文帳に追加
Ｓi基板等の半導体基板を用い、一般的な成膜技術,リソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、ナノメータサイズの量子細線を形成する。 - 特許庁
The oscillator is made by using IC technology or MMIC technology, and uses a silicon substrate or a GaAs substrate.例文帳に追加
発振装置は、ＩＣ技術又はＭＭＩＣ技術によって形成され、また、シリコン基板又はＧａＡｓ基板が用いられる。 - 特許庁
To provide a substrate holding technology which suppresses intruding of a liquid immersion liquid to the rear surface of a substrate.例文帳に追加
液浸液の基板裏面への入り込みを抑制した基板保持技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology for improving thermal uniformity of a substrate in a substrate processing apparatus and a substrate processing method for heating the substrate while conveying the substrate.例文帳に追加
基板を搬送しつつ加熱する基板処理装置および基板処理方法において、基板の熱均一性を向上させる技術を提供する。 - 特許庁
LOW-COST STRAINED SOI SUBSTRATE FOR HIGH-PERFORMANCE CMOS TECHNOLOGY例文帳に追加
高性能ＣＭＯＳ技術のための低コストの歪みＳＯＩ基板 - 特許庁
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「substrate technology」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 450件
SUBSTRATE WITH RUGGED SURFACE, TRANSFER MASTER DISK, AND MANUFACTURING TECHNOLOGY FOR THEM例文帳に追加
表面凹凸基板、転写用原盤、及びこれらの製造技術 - 特許庁
A second oxide film 35 extending in the vertical direction is formed on an Si substrate 31 using conventional film deposition technology, lithography technology and etching technology.例文帳に追加
従来の成膜技術,ホトリソグラフィ技術及びエッチング技術を駆使して、Ｓi基板３１上に垂直方向に延在する第２酸化膜３５を形成する。 - 特許庁
To provide a technology of controlling a conveyance height of a substrate with a high accuracy.例文帳に追加
基板の搬送高さを高精度に制御し得る技術を提供する。 - 特許庁
IMPROVEMENT IN TECHNOLOGY OF WINDING RING FOR MANUFACTURING OF SLIP-RING SUBSTRATE例文帳に追加
大径スリップリング基体の製造のための巻付リング技術における改良 - 特許庁
To provide a useful technology for improving the flatness of a substrate which is held.例文帳に追加
保持された基板の平坦度を改善する有用な技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology for reducing the micro roughness on the surface of a silicon substrate.例文帳に追加
シリコン基板表面のマイクロラフネスを減少させる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology for efficiently removing particles sticking to the substrate of a substrate processing equipment.例文帳に追加
基板処理装置において基板に付着したパーティクルを効率よく除去できる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology for aligning a substrate and a mask with high accuracy even when the substrate is large.例文帳に追加
大型基板であっても、基板とマスクとを精度良くアライメントを行うことができる技術を提供する。 - 特許庁
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