「Substrate-to-Substrate Uniformity」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To improve uniformity of plasma processing on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面におけるプラズマ処理の均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a silicon carbide substrate which can be polished with high in-plane uniformity.例文帳に追加

高い面内均一性で研磨され得る炭化珪素基板を提供する。 - 特許庁

The high gass pressure crosses the substrate to improve the uniformity of the thickness in the treatment.例文帳に追加

高いガス圧が基板を横切って処理の厚さの均一性を改善する。 - 特許庁

To provide a substrate mounting mechanism capable of additionally improving temperature uniformity.例文帳に追加

温度均一性を、さらに向上できる基板載置機構を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate heat treatment device for improving uniformity in heat treatment.例文帳に追加

熱処理の均一性を向上させる基板熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device having excellent uniformity of inter-substrate spacing.例文帳に追加

基板間隔の均一性に優れた液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

To improve the uniformity of light exposure on a substrate after the light exposure.例文帳に追加

露光後の基板上の露光量均一性を良好にする。 - 特許庁

To obtain satisfactory temperature uniformity in a substrate surface.例文帳に追加

基板面内において良好な均熱性を得ることを可能とする。 - 特許庁

To improve temperature uniformity of a substrate in a thermal processing apparatus.例文帳に追加

熱処理装置において基板の温度均一性を向上する。 - 特許庁

To improve a uniformity of a thickness of a thin film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成する薄膜の厚さの均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a substrate processor which can enhance uniformity in temperature within the substrate at the time of forming a film.例文帳に追加

成膜時に基板面内の温度均一性を高めることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To prevent reattachment of particles resulting from the substrate processing and improve the uniformity of the substrate processing.例文帳に追加

基板処理に伴うパーティクルの再付着を抑制するとともに、基板処理の均一性を向上する。 - 特許庁

To provide a substrate cooling apparatus capable of cooling a substrate with high uniformity.例文帳に追加

均一性高く基板を冷却することができる基板冷却装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processor capable of improving uniformity in immersion processing of a substrate.例文帳に追加

基板の浸漬処理の均一性を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pressing adapter capable of pressing a substrate with a load having in-plane uniformity by using a pressing member whose diameter is larger than the substrate.例文帳に追加

基板より大きな径を有する押圧部材を用いて、基板を面内均一な荷重で押圧する。 - 特許庁

To provide a substrate heating method which does not make the holding of a substrate affect temperature uniformity of the substrate and can makes the temperature uniformity excellent, and to provide a substrate with a resistance heater and used in the substrate heating method, and its manufacturing method.例文帳に追加

基板保持による影響が少なく、極めて高い均熱性を確保することが可能な基板加熱方法、この基板加熱方法に使用される抵抗発熱体付基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate heating device which is able to heat a substrate with high uniformity and to quickly change the heating temperature for each substrate.例文帳に追加

基板を均一性高く加熱することができ、基板ごとに加熱温度を速やかに変更することができる基板加熱装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which enables the in-plane uniformity of a substrate processing by processing a liquid to be improved, and also to provide a substrate processing method.例文帳に追加

処理液による基板処理の面内均一性を向上させることができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To improve the intra-surface uniformity of a substrate processing, when performing the substrate processing by feeding a gas to a substrate.例文帳に追加

基板にガスを供給して基板の処理を行うにあたり、基板の処理の面内均一性を高めること。 - 特許庁

To improve uniformity of the size of a resist pattern in a substrate surface by performing development processing on the substrate uniformly in the substrate surface.例文帳に追加

基板の現像処理を基板面内で均一に行い、レジストパターンの寸法の基板面内における均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for heating a substrate using the processing gas which can improve the uniformity of substrate processing.例文帳に追加

処理ガスを使用して基板を加熱処理する基板処理装置であって、基板処理の均一性を向上させることのできる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method for improving inplane uniformity of substrate processing with a simplified mechanism.例文帳に追加

簡素化された機構で基板処理の面内均一性を向上させる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus improving the inplane uniformity of substrate processing by a chemical solution.例文帳に追加

薬液による基板処理の面内均一性を向上することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus and a substrate treatment method that can control the uniformity of the thickness of a film formed on a substrate.例文帳に追加

基板に形成する膜の厚さの均一性を制御することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a group III nitride semiconductor substrate for acquiring intra-surface heat uniformity when the substrate is heated, and for assuring easier treatment of the substrate.例文帳に追加

基板加熱時の面内均熱性を確保でき、基板の取り扱いが容易であるIII族窒化物半導体基板を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of processing a substrate by improving a uniformity of a film thickness within a plane of the substrate.例文帳に追加

基板の面内の膜厚均一性を向上させて基板を処理できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus avoiding a contact between a substrate and a plate and heating the substrate with a high uniformity.例文帳に追加

基板とプレートとの接触を防止でき、かつ、高い均一性をもって、基板を加熱できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning equipment which can clean whole surface of a substrate such as a wafer or the like in uniformity and efficiency, and a cleaning method of the substrate.例文帳に追加

ウェーハなどの基板を全面均一に効率的に洗浄可能な基板洗浄装置及び基板の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus which can improve in-plane film thickness uniformity and inter-plane film thickness uniformity.例文帳に追加

面内膜厚均一性および面間膜厚均一性を向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, capable of improving the uniformity of substrate processing by enhancing the uniformity of the temperature distribution of a substrate mount member, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device employing the same.例文帳に追加

基板載置部材の温度分布の均一性を向上させ、基板の処理の均一性を向上をさせることができる基板処理装置およびそれを使用した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a substrate thermal processing device and a substrate thermal processing method capable of enhancing uniformity of a film thickness of a coating film on a substrate or pattern line width uniformity.例文帳に追加

基板上の塗布膜の膜厚の均一性またはパターン線幅均一性を向上させることができる基板熱処理装置および基板熱処理方法を提供することである。 - 特許庁

To improve the uniformity of prescribed treatment, such as cleaning treatment and etching treatment, to a substrate.例文帳に追加

基板に対する洗浄処理やエッチング処理等の所定の処理の均一性を向上させる。 - 特許庁

To perform frozen cleaning to a substrate at high removal rate and excellent in-plane uniformity.例文帳に追加

高い除去率で、しかも優れた面内均一性で基板を凍結洗浄する。 - 特許庁

To improve processing uniformity of a plasma processing system to process a substrate.例文帳に追加

基板を処理するためのプラズマ処理システムの処理の均一性を改善する。 - 特許庁

To improve dimensional uniformity of a real pattern to be transferred onto a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に転写される実パターンの寸法均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a technique which improves the uniformity of film thickness of a coating liquid applied to a substrate.例文帳に追加

基板に塗布された塗布液の膜厚の均一性を向上する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film forming apparatus which can transfer a thin film to a substrate with excellent in-plane uniformity.例文帳に追加

優れた面内均一性で薄膜を基板に転写することができる薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To improve in-plane uniformity of plasma treatment on a substrate to be processed.例文帳に追加

被処理基板のプラズマ処理の面内均一性を向上することを可能とする。 - 特許庁

To make it possible to improve uniformity of treatment by preventing arc discharge and prevent damage or pollution of the substrate.例文帳に追加

アーク放電を防止して処理の均一性を改善し、基板のダメージや汚損を防ぐ。 - 特許庁

To keep uniformity of holding of a substrate to be polished and improve precision of a polished surface.例文帳に追加

ポリッシング対象基板の保持の均一性を保ち、研磨面の精度を高めることを目的とする。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus improving the film thickness uniformity of a film to be vapor-deposited on a substrate.例文帳に追加

基板に蒸着される膜の膜厚均一性を向上させることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To suppress dusting on a back of a substrate to be treated during substrate treatment, which is performed while the substrate is mounted on a substrate mounting stage, while securing uniformity in substrate treatment.例文帳に追加

被処理基板を基板載置台に載置して実行する基板処理時に、基板処理の均一性を確保しつつ、被処理基板裏面における発塵を抑制する。 - 特許庁

To easily obtain temperature uniformity on a susceptor that is simple in structure, in a substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板処理装置に於いて、簡単な構造で而も温度均一性が容易に得られるサセプタを提供する。 - 特許庁

To provide a method for etching a quartz substrate for a photomask with high uniformity.例文帳に追加

フォトマスク用石英基板を均一性良くエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching device which improves in-plane uniformity of the etching rate over the entire substrate.例文帳に追加

基板全体でのエッチングレートの面内均一性を向上させるエッチング装置を提供する。 - 特許庁