actinic effectとは 意味・読み方・使い方

A cationic photopolymerization initiator is added to the epoxy resin obtained by this method which is irradiated with actinic radiation to effect photo-setting.例文帳に追加

この方法で得られたエポキシ樹脂に光カチオン重合開始剤を添加し、活性エネルギー線を照射して光硬化させる。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect of improving the circularity of a pattern and allowing formation of a pattern with a good focus latitude, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターンの真円性改善に効果が有り、フォーカス余裕度が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The positive type photoresist composition comprises (A) a compound which generates an acid by being irradiated with an actinic ray or a radioactive ray, (B) a resin which is converted in its property from being alkali- insoluble or hardly alkali-soluble to being alkali-soluble through the effect of the acid, and (C) specific compounds.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、及び（Ｃ）特定の化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method for producing a water-based ink composition for inkjet recording use, curable by actinic energy ray, free from a non-reactive volatile organic solvent for dissolving a photopolymerization initiator, giving no adverse effect of the residual solvent on the human body and the environment and having excellent curability.例文帳に追加

光重合開始剤を溶解するための非反応性で揮発性の有機溶剤を含有せず、残留溶剤が人体や環境に悪影響を与えないとともに、硬化性に優れたインクジェット記録用活性エネルギー線硬化型水性インク組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a reaction product which is especially reactive and has low viscosity, of polyisocyanate having an activated ethylenically unsaturated group which reacts through polymerization under the effect of actinic radiation, use of the reaction product in a coating composition, and a coated material obtained therefrom, which is especially scratch resistant.例文帳に追加

本発明の目的は、化学線の作用下で重合によって反応する活性化エチレン不飽和基を有するポリイソシアネートの、特に反応性で低粘性の反応生成物の製造方法、および被覆組成物における該反応生成物の使用、およびそれから得られる特に耐引掻性の被覆物を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition for liquid immersion exposure comprises: (A) a resin having a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having the solubility with an alkali developing solution which increases by the effect of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; (C) a nitrogen-containing compound having no hydroxyl group; and (D) solvent.例文帳に追加

（Ａ）単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）水酸基を含有しない含窒素化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁