anode glowとは 意味・読み方・使い方

Thus, the anode glow is stabilized, and the influence by the anode glow is eliminated.例文帳に追加

これによって、陽極グローが安定化され、当該陽極グローによる影響が排除される。 - 特許庁

In this condition, the vacuum tank 12 connected to the ground potential works as an anode, and the anode glow is generated in the vacuum tank 12.例文帳に追加

このとき、接地電位に接続された真空槽１０が陽極として作用するため、当該真空槽１０内に陽極グローが発生する。 - 特許庁

However, an auxiliary anode 40 formed of a high melting point metal having the potential higher than that of the vacuum tank 12 is provided in the vacuum tank 12, the anode glow is concentrated on this auxiliary anode 40.例文帳に追加

ただし、真空槽１０内には、当該真空槽１０よりも高電位とされた高融点金属製の補助アノード４０が設けられているので、陽極グローはこの補助アノード４０に集中する。 - 特許庁

The production method includes: generating a glow discharge by applying voltage between the cathode 1 and the first intermediate electrode 2; subsequently applying the voltage to the second intermediate electrode 3, the third intermediate electrode 7 and the anode 4 at predetermined timings in this order to generate the glow discharge between each electrode and the cathode 1; and then sifting the glow discharge to the arc discharge by increasing a discharge current.例文帳に追加

陰極1と第１中間電極間2に電圧を印加してグロー放電を発生させた後、順次、第２中間電極3、第３中間電極7、陽極4に所定のタイミングで電圧を印加していき、陰極1との間にグロー放電を生じさせ、その後放電電流を上昇させることによりグロー放電をアーク放電に移行させる。 - 特許庁

The first electrode constitutes a discharge electrode 3 as an anode and the second electrode constitutes the back electrode 4 of the sample as a cathode and the third electrode 11 forms glow plasma between the first electrode and the third electrode.例文帳に追加

第１の電極は陽極として放電電極３を構成し、第２の電極は陰極として試料の背面電極４を構成し、第３の電極１１は第１の電極との間でグロープラズマを生成する。 - 特許庁

To provide a plasma CVD system capable of preventing components in a vacuum tank from being damaged or the quality of a coating film from being unstable due to the generation of unstable anode glow.例文帳に追加

不安定な陽極グローの発生によって、真空槽内の構成要素が損傷したり、被膜の品質が不安定になったりするのを、防止する。 - 特許庁

This substrate can be obtained by introducing inert gas into a high vacuum chamber 1, applying a voltage of 450 to 2,000 V between a cathode 3 and an anode 4 in the high vacuum chamber 1 to initiate glow discharge, retaining a substrate 2 to be treated within a positive column 7 of the glow discharge for 20-60 s to apply plasma treatment to the hard coat layer on the surface.例文帳に追加

この基板は、不活性ガスを導入した高真空室１内のカソード３とアノード４間に４５０〜２０００Ｖの電圧を印加してグロー放電を起こさせ、このグロー放電の陽光柱７内に被処理基板２を２０〜６０秒間滞留させて表面のハードコート層をプラズマ処理することによって得られる。 - 特許庁