blanket rate methodとは 意味・読み方・使い方

This method for CMP contains the steps of forming a CMP slurry containing ceric oxide, adding a slurry reform to a slurry, namely polishing a low structure region at substantially zero rate with the slurry reform for polishing a high structure region at a rate close to a blanket polishing rate, and polishing a structure by the use of the slurry containing a reform.例文帳に追加

ＣＭＰの方法は、酸化セリウムを含有するＣＭＰスラリーを形成する工程と、スラリー改質剤をスラリーに添加する工程であって、スラリー改質剤が、実質的にゼロレートで低構造領域を研磨し、ブランケット研磨レートに近いレートで高構造領域を研磨する、工程と、改質剤を含有するスラリーを用いて構造体を研磨する工程とを包含する。 - 特許庁

To provide a letterpress printing plate for a letterpress reversing off-set method and its manufacturing method which can be manufactured easily, wherein washing and reuse of the letterpress printing plate is easy, contamination by impurities of a polymer electroluminescent element is prevented, and a removal rate from a blanket is improved, and provide a manufacturing method of the polymer electroluminescent element using the letterpress printing plate.例文帳に追加

簡単に製造することができ、凸刷版の洗浄と再使用が容易で、高分子電界発光素子への不純物の混入を防止し、ブランケットからの除去率の向上した凸版反転オフセット法用凸刷版とその製造方法及びその凸刷版を用いた高分子電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a beryllium material filling body having an improved Be density when being used for a blanket, and having fine particle sizes, a high filling rate, and a circulation resistance having a high sweeping gas effect, capable of preventing growth of cracks in spite of an essentially brittle material; and to provide a molding method of the beryllium material filling body.例文帳に追加

ブランケットに用いられた時に、Ｂｅの密度を向上させ、微粒子の粒径が小さく、本質的に脆い物質でありながら割れの成長が妨げられ、高い充填化と掃引気体効果の高い流通抵抗とされたベリリウム材充填体およびベリリウム材充填体成形方法を提供する。 - 特許庁