boron diffusionとは 意味・読み方・使い方

Furthermore, boron diffusion is applied to a surface wherein the recess 15 is formed, and a boron-doped layer 45 serving as the diaphragm is formed.例文帳に追加

さらに、その凹部１５形成面にボロン拡散を施し、振動板となるボロンドープ層４５を形成する。 - 特許庁

External diffusion of the boron 6, which is additive impurity from an isolation region, is restrained.例文帳に追加

分離領域からの添加不純物であるボロン６の外方拡散を抑制する。 - 特許庁

The composition for forming a p-type diffusion layer is composed to contain at least one kind of boron compound selected from a boron nitride and a boron carbide, and a dispersion medium.例文帳に追加

ｐ型拡散層形成組成物を窒化ホウ素及び炭化ホウ素から選ばれる少なくとも１種のホウ素化合物と、分散媒と、を含有して構成する。 - 特許庁

Further, the single-crystal silicon layer 30 has diffusion regions 31 doped with boron.例文帳に追加

そして、単結晶シリコン層３０は、ホウ素のドーピングされた拡散領域３１を有している。 - 特許庁

A single-crystal silicon wafer is put into a thermal diffusion furnace, heated at 900-1,150°C in a mixed atmosphere of boron tribromide, nitrogen and oxygen of a p-type impurity, the boron is thermally diffused on the front surface of the wafer from the mixed atmosphere, and a boron diffusion layer is formed (boron deposition step).例文帳に追加

単結晶シリコンウェハを熱拡散炉に入れ、Ｐ形不純物である三臭化ボロンと窒素と酸素の混合雰囲気中にて９００〜１１５０℃で加熱し、その混合雰囲気からウェハ表面にボロンを熱拡散させてボロン拡散層を形成する（ボロンデポジション工程）。 - 特許庁

To provide a coating liquid for boron diffusion capable of diffusing boron at high concentration even using a propylene glycol-based solvent having inferior solubility in a boron compound.例文帳に追加

本発明の課題は、ホウ素化合物の溶解性に劣るプロピレングリコール系溶剤を用いながら、高濃度にホウ素を拡散させることができるホウ素拡散用塗布液を提供することである。 - 特許庁

Thereafter, a boron (B) application diffusion source is applied by spin coating to the surface of the silicon substrate 20.例文帳に追加

次に、ボロン（Ｂ）の塗付拡散源をシリコン基板２０の表面にスピンコートにより塗布する。 - 特許庁

P^+-Type impurities (such as boron B) are ion-implanted, and a p^+-type buried diffusion layer is formed on an n^+-type buried diffusion layer.例文帳に追加

Ｐ^＋型不純物（例えばボロンＢ）をイオン注入し、Ｎ^＋型埋め込み拡散層上にＰ^＋型埋め込み拡散層を形成する。 - 特許庁