chemical plating methodとは 意味・読み方・使い方

To provide chemical treatment equipment by which, in plating treatment equipment where plating treatment is performed while vertically transferring a tape 158 mm in width, the unnecessary outflow of a plating solution can be prevented and the inclusion of air bubbles into the plating solution can be practically prevented, and to provide a chemical treatment method.例文帳に追加

幅１５８ｍｍのテープを縦にして搬送しながらメッキ処理を行うメッキ処理装置において、メッキ液が無駄に流出しないようにし、またメッキ液に気泡が巻き込まれにくいようにする。 - 特許庁

To provide an electroless composite plating bath and an electroless composite plating method which realize composite eutectoid of the fine grains or the like of a fluorinated carbon resin or the like into a metal plating film by electroless plating (chemical plating).例文帳に追加

無電解めっき（化学めっき）により、金属めっき皮膜中にフッ素樹脂等の微粒子等を複合共析させることが可能な無電解複合めっき浴及び無電解複合めっき方法を提供すること。 - 特許庁

A metal layer 7 is deposited by the plating method and the metal layer 7 is removed by the chemical-mechanical polishing method.例文帳に追加

めっき法で金属層７を堆積するとともに、化学的機械研磨法で金属層７を除去する。 - 特許庁

PLATING WASTEWATER TREATMENT METHOD USING MICROBUBBLE, AND CHEMICAL LIQUID FOR PLATING WASTEWATER TREATMENT USED FOR THE METHOD例文帳に追加

マイクロバブルを利用したメッキ排水処理方法およびその方法に用いられるメッキ排水処理用薬液 - 特許庁

To provide a high performance chemical plating method constructing a new plating process in which, as a catalyst in the chemical plating, palladium is not used at all for solving the problems in the stability of the feed and high cost of palladium.例文帳に追加

パラジウムの供給安定性や高価格問題を解決するため、化学めっきの触媒としてパラジウムを全く使用しない新しいめっきプロセスを構築する高性能化学めっき法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF CONTROLLING CONCENTRATION OF CHEMICAL TREATMENT LIQUID AND PLATING APPARATUS例文帳に追加

化学処理液の濃度管理方法並びにこれを利用する濃度管理システムおよびめっき装置 - 特許庁

CHEMICAL TREATMENT EQUIPMENT AND PLATING TREATMENT EQUIPMENT AND CHEMICAL TREATMENT METHOD, PLATING TREATMENT METHOD AND RESIDUE REMOVAL TREATMENT METHOD AS WELL AS METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD USING THE SAME例文帳に追加

化学的処理装置とメッキ処理装置および化学的処理方法とメッキ処理方法と残渣除去処理方法ならびにそれを用いた半導体装置の製造方法およびプリント基板の製造方法 - 特許庁

In the method for forming the trivalent chromate chemical conversion treatment solution on zinc or zinc alloy plating, the zinc or the zinc alloy plating is brought into contact with the trivalent chromate chemical conversion treatment solution.例文帳に追加

また、本発明は、亜鉛又は亜鉛合金めっきを前記３価クロム化成処理液に接触させることを特徴とする亜鉛又は亜鉛合金めっき上に３価クロム化成処理皮膜を形成させる方法を提供する。 - 特許庁