chemical vapor deposition processとは 意味・読み方・使い方

ROTARY TYPE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS FOR MASS PRODUCTION AND PROCESS FOR FORMING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FILM ON INNER SURFACE OF PLASTIC VESSEL例文帳に追加

ロータリー型量産用ＣＶＤ成膜装置及びプラスチック容器内表面へのＣＶＤ膜成膜方法 - 特許庁

PROCESS AND APPARATUS FOR VAPOR-DEPOSITING TITANIUM NITRIDE ON SUBSTRATE WITH CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

化学蒸着法により窒化チタンを基板に蒸着させる方法及び装置 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus for depositing a manganese film by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process.例文帳に追加

マンガン膜をＣＶＤ法により形成することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

The bonding coat may be deposited on the insulating layer by a chemical vapor deposition process and an electrophoretic deposition process prior to the deposition of the barrier layer.例文帳に追加

バリヤ層を堆積する前に、化学蒸着法および電気泳動堆積法でボンディングコートを絶縁層に堆積させてもよい。 - 特許庁

It is preferable that, e.g., the vapor deposition process is a chemical vapor deposition (CVD) or the covering layer is made of carbon.例文帳に追加

前記蒸着法が化学的蒸着法（ＣＶＤ）である態様、前記被覆層がカーボンよりなる態様、などが好ましい。 - 特許庁

To provide synthesis of metal chalcogenides using chemical vapor deposition (CVD) process, atomic layer deposition (ALD) process, or wet solution process.例文帳に追加

本発明は化学蒸着（ＣＶＤ）プロセス、原子層堆積（ＡＬＤ）プロセス又は湿式溶液プロセスを用いた金属カルコゲニドの合成を開示する。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition system having a system constitution compact and simple correspondingly to the enlargement of a substrate, and capable of securely performing film deposition by a chemical vapor deposition process, and to provide a film deposition method using the same.例文帳に追加

基板の大型化に対応してコンパクトで簡素な装置構成で、確実に化学気相成長法による成膜を行うことが可能な化学気相成長装置及びこれを用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

MULTI-STEP DEP-ETCH-DEP (DEPOSITION-ETCHING-DEPOSITION) HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS FOR FILLING DIELECTRIC GAP例文帳に追加

誘電ギャップ充填用のマルチステップ堆積・エッチング・堆積（ＤＥＰ−ＥＴＣＨ−ＤＥＰ）高密度プラズマ化学気相堆積プロセス - 特許庁