chlorine trioxideとは 意味・読み方・使い方

In the bathing agent, the composition further contains a component selected from a group comprising rubidium oxide, zirconium dioxide, titanium dioxide, fluorine, diphosphorus pentoxide, chlorine and sulfur trioxide.例文帳に追加

また、本発明は、組成物が酸化ルビジウム、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、フッ素、五酸化二リン、塩素および三酸化硫黄からなる群より選択される成分をさらに含有することを特徴とする上記浴用剤を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device is to etch a polysilicon or silicon using either one out of nitrosyl chloride, nitrile chloride or nitrosyl bromide or using chlorine or bromic base etching gas additionally containing either one out of nitrogen oxide, dinitrogen oxide, nitrogen dioxide, nitrogen trioxide, dinitrogen trioxide, dinitrogen tetroxide, dinitrogen pentoxide.例文帳に追加

本発明にかかる半導体装置の製造方法は、塩化ニトロシル、塩化ニトロイルまたは臭化ニトロシルのいずれかをエッチングガスとして用いたうえで、あるいはまた、一酸化窒素、一酸化二窒素、二酸化窒素、三酸化窒素、三酸化二窒素、四酸化二窒素、五酸化二窒素またはフッ化ニトロシルのいずれかを添加含有させてなる塩素系または臭素系のエッチングガスを用いたうえでポリシリコンまたはシリコンをエッチングすることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a sealing resin composition having sufficient flame retardancy imparted by incorporating therein a new phosphorus/nitrogen based flame retardant containing neither a halogen (chlorine or bromine) compound nor antimony trioxide, excellent in moldability, continuous producibility, and reliability, and having high whiteness, reflectance and resistance to discoloration, and a semiconductor sealing device.例文帳に追加

ハロゲン（塩素、臭素）化合物および三酸化アンチモンを含有しない、新規なリン−窒素系難燃剤の配合により、十分な難燃性を付与しつつ、成形性、連続生産性、信頼性に優れた、さらには高白色度、高反射率、耐変色性を有する封止用樹脂組成物および半導体封止装置を提供する。 - 特許庁

The cement C consists of an incineration ash formed by incinerating a municipal waste and an incineration ash formed by incinerating sewage sludge and contains components such as calcium oxide, silicon dioxide, aluminum oxide, ferric oxide and sulfur trioxide in almost same way as that of ordinary cement (e.g. Portland cement) and the components causing metal corrosion such as chlorine content is removed.例文帳に追加

また、セメントＣは、都市ゴミを焼却して生成した焼却灰や、下水汚泥を焼却して生成した焼却灰からなるセメントであり、通常のセメント（例えばポルトランドセメント）と略同様に、酸化カルシウム、二酸化けい素、酸化アルミニウム、酸化第二鉄、三酸化硫黄などの成分を含み、塩素分等の金属さびの原因となる成分を除去したセメントである。 - 特許庁