chlorine treatment equipmentとは 意味・読み方・使い方

To provide a treating method for obtaining incineration residue suitably available as a cement raw material or the like and having small chlorine content by removing both of a soluble chlorine component and a hardly soluble chlorine component from the incineration residue and treating the incineration residue for a short term, with simple treatment equipment and low treatment cost.例文帳に追加

焼却残渣から可溶性塩素成分と難溶性塩素成分の両方を除去して、セメント原料等として好適に用い得る、塩素含有率の小さな焼却残渣を得るための処理方法であって、処理設備が簡易で、処理コストが低く、短期間で処理することのできる、焼却残渣の処理方法を提供する。 - 特許庁

In the cleaning process, cleaning gas containing fluorine gas and chlorine gas is fed into the reaction tube heated to 300°C, and silicon nitride is thereby removed to clean the interior of the heat treatment equipment.例文帳に追加

洗浄工程では、３００℃に加熱された反応管内に、フッ素ガスと塩素ガスと窒素ガスとを含むクリーニングガスを供給し、窒化珪素を除去して熱処理装置の内部を洗浄する。 - 特許庁

To provide an etching post-treatment method and an etching system wherein equipment is not caused to increase its size and chlorine-based gas remaining on a substrate can be efficiently removed.例文帳に追加

設備の大型化を招くことなく、基板に残存する塩素系ガスを効率良く取り除くことが可能なエッチング後処理方法及びエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat treatment equipment and a method for adhesive materials to be treated which are capable of pyrolyzing hazardous materials, such as dioxins and organic chlorine compounds, with high thermal efficiency.例文帳に追加

高熱効率でダイオキシン類、有機塩素化合物などの有害物質を加熱分解できる付着性被処理物質の加熱処理装置及び方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This water treatment equipment is provided with an electrolysis cell 10 provided with a cathode plate 11a having a property of producing chlorine in water by energizing and an anode plate 11b, a reaction vessel 20 provided with a heater 21 for heating water treated in the electrolysis cell 10 and a gas dissolving apparatus 30 for dissolving chlorine gas produced in the electrolysis cell 10 into the water in the reaction vessel 20.例文帳に追加

通電により水中に塩素を発生する性質を有する陰極板１１ａおよび陽極板１１ｂを備えた電気分解槽１０と、この電気分解槽１０によって処理された水を加熱する加熱器２１を備えた反応槽２０と、電気分解槽１０において発生する塩素ガスを反応槽２０の水中へ溶解させるガス溶解装置３０とを備える。 - 特許庁

In this surface treatment, surface of a semiconductor substrate 3 is plasma etched with a plasma etching equipment in which the semiconductor substrate 3 is grounded, wherein a gas mixture comprising SF6 gas containing fluorine atoms in the molecule and HCl gas containing a chlorine atom in the molecule is used.例文帳に追加

分子中にフッ素原子を含むＳＦ_6ガスと、分子中に塩素原子を含むＨＣｌガスとの混合ガスを用いて半導体基板３の表面を、半導体基板３が接地されたプラズマエッチング装置１でプラズマエッチングしている。 - 特許庁

To provide a method for removing corrosion components in a waste treatment equipment which is capable of easily and efficiency removing the corrosion components produced by waste combustion of chlorine-base plastics, or the like, at a low cost, thereby enabling the higher temperature and higher pressure of a waste heat boiler.例文帳に追加

塩素系プラスチック等の廃棄物燃焼によって発生する腐食成分を、簡単且つ低コストで効率良く除去することができ、それにより廃熱ボイラの高温，高圧化を可能にした廃棄物処理設備における腐食成分除去方法を提供する。 - 特許庁

In the water purification treatment, the water purification system for inactivating or removing the chlorine-resistant pathogenic microorganisms contained in the water to be treated is composed of a turbidimeter, a membrane filter not equipped with a backwashing device, and an ultraviolet irradiation device, which can make equipment cost, running cost, etc. low.例文帳に追加

浄水処理において、被処理水中に含まれる耐塩素性病原性微生物を不活化あるいは除去するための浄水システムを、濁度測定装置、逆流洗浄装置を有しない膜ろ過装置及び紫外線照射装置により構成することにより、設備及び運転費等を安価にすることができる。 - 特許庁