chloro fluorocarbonとは 意味・読み方・使い方

To provide a new decomposition treatment agent for organic halides such as chloro-fluorocarbon capable of fixing fluorine and chlorine as stable and harmless alkaline-earth metal salts in a single reaction system without generating harmful substances such as acidic gas and carbon tetrachloride at all.例文帳に追加

酸性ガスや四塩化炭素等の有害物質を一切生成することなく、フッ素と塩素を単一反応系において安定で無害なアルカリ土類金属塩として固定化することができるフロン類等の有機ハロゲン化物の新規分解処理剤を提供すること。 - 特許庁

To obtain a detergent composition for dry-cleaning which, without impairing the performances such as detergency required to a detergent for dry-cleaning, excels in resoiling preventing property, antistatic property and softness-providing property and can be used by being added into a third generation CFC (chloro/fluorocarbon)-replacing solvent.例文帳に追加

ドライクリーニング用洗浄剤に要求される洗浄力などの性能を損なうことなく、再汚染防止性、帯電防止性、柔軟性などに優れ、第三世代フロン系溶剤に添加して使用することができるドライクリーニング用洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

In an LNG evaporation apparatus 11, an intermediate medium liquid 18 is evaporated with a chloro fluorocarbon evaporator 14 by using sea water, river water or the like as a heat source; and LNG flowing through a heat transfer pipe 15 in an LNG evaporator 12 is heated and evaporated with the resultant intermediate medium vapor 19.例文帳に追加

ＬＮＧ気化装置１１では、海水や河川水を熱源として、フロン蒸発器１４で中間媒体液１８を蒸発させ、中間媒体蒸気１９でＬＮＧ蒸発器１２内の伝熱管１５を流れるＬＮＧを加熱し蒸発させる。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, and a solvent B made of methyl isobutyl ketone and higher in solubility for the resist layer than the solvent A.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いメチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, and a solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A and made of n-amyl acetate, or ethyl acetate or the admixture thereof.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of methyl isobutyl ketone.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｃとを含む。 - 特許庁