confinement structureとは 意味・読み方・使い方

An n-type light confinement layer 41a, the first light confinement layer 43a, the quantum well structure section 45a, the second light confinement layer 47a and a p-type light confinement layer 49a appear on at least any one of the one end face 13a and the other end face 13b of a semiconductor region 13.例文帳に追加

ｎ型光閉じ込め層４１ａ、第１の光閉じ込め層４３ａ、量子井戸構造部４５ａ、第２の光閉じ込め層４７ａおよびｐ型光閉じ込め層４９ａは、半導体領域１３の一端面１３ａおよび他端面１３ｂの少なくともいずれか一方に現れている。 - 特許庁

QUANTUM WELL STRUCTURE, OPTICAL CONFINEMENT TYPE QUANTUM WELL STRUCTURE, SEMICONDUCTOR LASER, DISTRIBUTED FEEDBACK SEMICONDUCTOR LASER, SPECTROGRAPH, AND MANUFACTURING METHOD OF THE QUANTUM WELL STRUCTURE例文帳に追加

量子井戸構造、光閉じ込め型量子井戸構造、半導体レーザ、分布帰還型半導体レーザ、分光計測装置及び量子井戸構造の製造方法 - 特許庁

A precursor 510 in three dimensional photonic crystal structure and a substrate where a stripe 509A including a light confinement part is stuck together to obtain a structure having the light confinement part formed at the center part of the three dimensional photonic crystal structure.例文帳に追加

３次元フォトニック結晶構造の前駆体510と光閉じ込め部を含むストライプ509Aが形成された基板とを貼り合わせることによって、３次元フォトニック結晶構造体の中央部に光閉じ込め部が形成された構造体が得られる。 - 特許庁

To disclose a lithography apparatus comprising a substrate table, a projection system, a liquid confinement structure and a thermal measurement system.例文帳に追加

基板テーブル、投影システム、液体閉じ込め構造及び熱測定システムを備えるリソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

To establish an electric current confinement structure in the laser body without requiring ion radiation and ion implantation.例文帳に追加

イオン照射やイオン注入を行う必要なしにレーザ本体内に電流閉じ込め構造を設けること。 - 特許庁

The cladding region includes a periodic structure configured to produce light guided by bandgap confinement.例文帳に追加

クラッド領域はバンドギャップ閉じ込めによってガイドする光を生成するように構成された周期的構造を含む。 - 特許庁

The apparatus also has a liquid confinement structure defining, in use, in part with the lower surface and the substrate and/or substrate table, an immersion space, and the immersion space has, in use, a liquid meniscus between a part of the lower surface facing a surface of the liquid confinement structure and a facing surface of the liquid confinement structure facing the part of the lower surface.例文帳に追加

装置は、使用時に、部分的に下面及び基板及び／又は基板テーブルとともに液浸空間を画定する液体閉じ込め構造も有し、液浸空間は、使用時に液体閉じ込め構造の表面に対面する下面の一部と、下面の一部に対面する液体閉じ込め構造の対面表面との間に液体メニスカスを備える。 - 特許庁

The liquid confinement structure is equipped with at least of two openings 10 used for supplying a liquid to a gap below the structure and extracting it.例文帳に追加

液体閉じ込め構造は、構造の下方の隙間に液体を供給しかつ液体を引き出すために使用される少なくとも二つの開口１０を備える。 - 特許庁