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cu-Xとは 意味・読み方・使い方

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遺伝子名称シソーラスでの「cu-X」の意味

cu-X

fly遺伝子名cu-X
同義語(エイリアス)curled on X
SWISS-PROTのID---
EntrezGeneのIDEntrezGene:246841
その他のDBのIDFlyBase:FBgn0005001

本文中に表示されているデータベースの説明

SWISS-PROT
スイスバイオインフォマティクス研究所欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発運営されているタンパク質アミノ酸配列データベース
EntrezGene
NCBIによって運営されている遺伝子データベース染色体上の位置配列発現構造機能、ホモロジーデータなどが含まれている
FlyBase
米英大学のショウジョウバエ研究者などにより運営されるショウジョウバエ生態遺伝子情報に関するデータベース

「cu-X」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 131



例文

This glass contains MVxOy (wherein, M is Ag, Cu, Cr, Li, Sr or Ca; x is 1-10; and y is 2-30).例文帳に追加

MVxOy(M:Ag,Cu,Cr,Li,Sr,Ca)、(x:1〜10,y:2〜30)を含有する。 - 特許庁

The element X is Cu, for example.例文帳に追加

前記元素Xは例えばCuである。 - 特許庁

X value = Cr+Mo+1.5Si+0.5Nb+0.2V+0.3W+8 Al-Ni-0.6Co≥-0.5Mn-30C-30N-0.5Cu...(1).例文帳に追加

X値=Cr+Mo+1.5 Si+0.5 Nb+0.2 V+0.3 W+8Al−Ni−0.6 Co−0.5 Mn−30C−30N−0.5 Cu --- (1) - 特許庁

The ordinary temperature NO_x adsorbent comprises a carrier comprising a specific oxide including an oxide of at least one element selected from Co, Fe, Cu, Ce and Mn; and at least one kind of carried metal selected from Cu, Co, Ag and Pd carried on the specific oxide.例文帳に追加

Co、Fe、Cu、Ce及びMnから選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物を含む特定酸化物からなる担体と、特定酸化物に担持されたCu、Co、Ag及びPdから選ばれる少なくとも一種の担持金属と、からなる。 - 特許庁

The thermoelectric element has a ZrCuSiAs type crystal structure, and the composition is shown as LnTPnO_x (Ln is rare earth, M is at least metal atom chosen from Fe, Ru, Os, Co, Ni and Cu, Pn is P, As or Sb, and x is a number of 1.1-0.5).例文帳に追加

ZrCuSiAs型結晶構造を持ち、かつ組成がLnTPnO_x(Lnは希土類を、MはFe,Ru,Os,Co,NiおよびCuから選ばれた少なくとも金属原子を、PnはP、AsまたはSbを、xは1.1〜0.5の数を示す)で示される熱電素子。 - 特許庁

(where [Mn], [Cu], [Ni], [Nb] and [C] represent contents of Mn, Cu, Ni, Nb and C, respectively) satisfies the relation of (value X>1); and has a microstructure which mainly includes bainite.例文帳に追加

K_0={0.08[Mn]+0.04([Cu]+[Ni])+2[Nb]}/5[C] …(1) 但し、[Mn]、[Cu]、[Ni]、[Nb]および[C]は、夫々Mn、Cu、Ni、NbおよびCの含有量を示す。 - 特許庁

例文

Here, this perovskite type oxide is represented by LnE_xCo_yFe_(1-y-x)O_3 (Ln is La or Nd, E is Cu or Ni, and x and y satisfy relations of 0.3≤x≤0.6, 0.1≤y≤0.3, and x+y≤0.9).例文帳に追加

ここで、このペロブスカイト型酸化物は、LnE_xCo_yFe_(1-y-x)O_3(LnはLaまたはNd、EはCuまたはNi)で示され、0.3≦x≦0.6,0.1≦y≦0.3,かつx+y≦0.9の範囲とされたものである。 - 特許庁

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「cu-X」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 131



例文

The compound containing copper, zinc and sulfur preferably has a composition of Cu_xZn_yS_z(x=2; y=1.5 to 2.5; z=2.5 to 3.5; and x+y+z=7).例文帳に追加

前記銅、亜鉛及び硫黄を含む化合物は、Cu_xZn_yS_z(x=2;y=1.5〜2.5;z=2.5〜3.5;x+y+z=7)の組成を有することが好ましい。 - 特許庁

In the chemical formula A, M is at least one transition metal selected from V, Cr, Mn, Fe, Co, No, and Cu, and the range of x is 0<x<2.例文帳に追加

化学式A:Ti_2-x M_xO_4 (ただし、M=V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cuから選ばれる少なくとも1種の遷移金属、0<x<2) - 特許庁

The Cu-based metallic glass alloy has a composition expressed by Cu_36-xNi_xZr_48Ag_8Al_8 (where x is atom% and 0<x≤10).例文帳に追加

Cu基金属ガラス合金は、Cu_36−xNi_xZr_48Ag_8Al_8(xは原子%で、0<x≦10)で示される組成を有している。 - 特許庁

The Cu-based metal glass alloy has a composition expressed by Cu_36-xPd_xZr_48Ag_8Al_8 (x is atomic%, and 0<x≤10).例文帳に追加

Cu基金属ガラス合金は、Cu_36−xPd_xZr_48Ag_8Al_8(xは原子%で、0<x≦10)で示される組成を有している。 - 特許庁

In the formula, X+Y+Z=3, X>0, Y≥0, and Z>0 are satisfied, and L and M each is Co, Ni, Fe, Cu, or Si.例文帳に追加

式中、X+Y+Z=3、X>0、Y≧0、Z>0であり、L及びMは、それぞれCo,Ni,Fe,Cu及びSiのいずれかである。 - 特許庁

In the aluminum nitride powder, the intensity ratio I(002)/I(100) of diffraction peak of (002) plane to that of (100) plane in X-ray diffraction using a Cu-Kα ray is 0.2-0.5.例文帳に追加

Cu−Kα線を用いたX線回折において(002)面と(100)面からの回折ピークの強度比I(002)/I(100)が0.2〜0.5であることを特徴とする窒化アルミニウム粉末。 - 特許庁

The phosphor contains manganese as a light emission center and is represented by composition formula (1): Cu(Al_1-xGa_x)(S_1-ySe_y)_2:Mn,Si (wherein x is a number meeting 0≤x≤0.4 and y is a number meeting 0≤y≤0.4).例文帳に追加

発光中心原子としてマンガンを含む、組成式(1)Cu(Al_1-xGa_x)(S_1-ySe_y)_2:Mn,Si (1)(式中、xは0≦x≦0.4を満たす数を示し、yは0≦y≦0.4を満たす数を示す。)で表される。 - 特許庁

例文

To provide a method for evaluating the total amount of Cu that is solid-solved in a silicon wafer, and moreover the Cu concentration of a bulk region even though in the use of a total X-ray reflection fluorescence (TXRF) method for measuring the Cu concentration of a surface of the silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウェーハの表面におけるCuの濃度を測定するTXRF法を用いるにもかかわらず、シリコンウェーハ中に固溶しているCuの全量、ひいてはバルク領域中のCu濃度を評価する方法を提供する。 - 特許庁

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