electro deposition processとは 意味・読み方・使い方

This cold cathode is formed in the physical properties by the rubbing process, the oblique vapor- deposition process, or the whiskers process, and an electro emission area is formed by the silk-screen process or the spin coating process.例文帳に追加

このような冷陰極は、ラビング法、斜め蒸着法、または、ウイスカーで物理的形状を形成し、スクリーン印刷法、または、スピンコート法で電子放出領域を形成することにより製造される。 - 特許庁

To provide a plating process including the application of a soft metallic coating, composed of substantially pure metal or alloy, to resilient metal seals utilizing a high-volume, high-energy electro-deposition plating process.例文帳に追加

本発明は、高容量および高エネルギーの電着めっきプロセスを用いた、弾力性金属シールにほぼ純粋な金属あるいは合金からなる軟質金属コーティングの塗布を含むめっき方法を提供する。 - 特許庁

The seals of this process are applicable to any application or industry where a large quantity of high vacuum/high purity seals are required and where traditional electro-deposition processes would not yield a sufficient quantity of finished parts or would not produce them at an acceptable cost.例文帳に追加

この方法のシールは、多数の高真空／高清浄シールが必要とされ、従来の電着方法十分な数の完成品を生産できない、あるいは許容できるコストで生産できないあらゆる用途や産業に適用可能である。 - 特許庁

The optical element 10 has the structure obtained by successively laminating the ruthenium lower electrode 14 which is formed by a pulse laser deposition process, a thin lithium niobate film 16 which is the electro-optic effect material heteroepitaxially grown thereon and an upper electrode 20 which consists of a metallic material on the hexagonal sapphire substrate 12 having a composition of Al_2O_3.例文帳に追加

光学素子１０は、Ａｌ_２Ｏ_３の組成を有する六方晶のサファイア基板１２上に、パルスレーザデポジション法によって形成したルテニウム下部電極１４，その上にヘテロエピタキシャル形成した電気光学効果物質であるニオブ酸リチウム薄膜１６，金属材料による上部電極２０，を順に積層した構造をとっている。 - 特許庁

In the method for manufacturing the metal carrier by making the substrate carry the metal nanocolloid particle using the metal nanocolloid solution, a conductive substrate is used as a substrate, the colloidal solution substantially containing no protective colloid forming agent is used as the metal nanocolloid solution, and the metal nanocolloid particle is carried on the substrate via an electro-deposition process.例文帳に追加

金属ナノコロイド液を用い、基体に金属ナノコロイド粒子を担持させて金属担持体を製造する方法において、基体として導電性基体を、金属ナノコロイド液として保護コロイド形成剤を実質上含まないコロイド液を使用し、電着法により、前記基体に金属ナノコロイド粒子を担持させる方法である。 - 特許庁