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electron modelとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 電子モデル; 電子模型

JST科学技術用語日英対訳辞書での「electron model」の意味

electron model


「electron model」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

an orbital electron in Bohr's atomic model発音を聞く 例文帳に追加

ボーアの原子模型における軌道電子 - EDR日英対訳辞書

The three-dimensional ramp device element model comprises: a Poisson equation model; an electron continuity equation model; a hole continuity equation; a Maxwell equation model; an eddy-current equation model; and an Ohm's law equation model.例文帳に追加

3次元ランプデバイス素子モデルは、ボアソン方程式モデルと、電子連続方程式モデルと、正孔連続方程式モデルと、マクスウェル方程式モデルと、渦電流方程式モデルと、オームの法則方程式モデルとを含む。 - 特許庁

When a locus of implantation ions is calculated by the Monte Carlo method to generate an ion implantation distribution, an electron stopping power S_e with respect to implantation ions is expressed by a combination of an electron stopping power S_eL of the Lindhard model, and an electron stopping power S_e-mB, corresponding to a modification of the electron stopping power S_eB of the Bethe model.例文帳に追加

注入イオンの軌跡をモンテカルロ法によって計算してイオン注入分布を発生させる際に、前記注入イオンに対する電子阻止能S_eを、リントハルトモデルの電子阻止能S_eLと、ベーテモデルの電子阻止能S_eBを修正した修正電子阻止能S_e-mBとの組合せにより表す。 - 特許庁

To provide an ionosphere model compensation method capable of determining an ionospheric electron density distribution which corresponds to reality.例文帳に追加

現実に則した電離層電子密度分布を決定することの可能な電離層モデル補正方法を提供する。 - 特許庁

An ionosphere density estimation unit 4 calculates three-dimensional ionosphere electron density distribution using a satellite signal from a navigation satellite and an ionosphere electron density distribution model.例文帳に追加

電離層密度推定部4は、航法衛星からの衛星信号および電離層電子密度分布モデルを用いて、3次元的な電離層電子密度分布を算出する。 - 特許庁

The model of the signal intensity or signal attenuation to be observed of the electron spin resonance spectrum is used according to the blood sugar level, the administration amount of the electron spin label and the elapse time after the administration to enhance an estimate precision.例文帳に追加

血糖値と電子スピンラベルの服用量と服用後の経過時間に応じて観測されるべき電子スピン共鳴スペクトル信号強度や信号減衰のモデルを用いて推定精度を上げる。 - 特許庁

例文

Since an equivalent circuit model 10 provided with the serial circuit of plural sub device elements 13 depending on electron concentration and an electron velocity is set, simulation is based on the equivalent circuit model 10 including the internal physical characteristics of a concrete semiconductor device, and an accurate simulation result for which conventional errors are suppressed is attained.例文帳に追加

電子濃度および電子速度に依存した複数のサブデバイス要素13の直列回路を有した等価回路モデル10を設定するようにしたので、具体的な半導体デバイスの内部物理特性を含んだ等価回路モデル10に基づいたシミュレーションとすることが可能となり、従来のような誤差が抑えられた正確なシミュレーション結果となる。 - 特許庁

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「electron model」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

A thin-film sample 2 thinned down to allow for observation by a transmission type electron microscope is made from a model alloy 1 to be observed, and a mark 3 is manufactured on the thin-film sample 2.例文帳に追加

観察対象となるモデル合金1から、透過型電子顕微鏡で観察可能な厚さまで薄膜化された薄膜試料2が作製され、薄膜試料2にマーク3の作製が行なわれる。 - 特許庁

A method for controlling the whole electronic state of a polymer to an electroconductivity defined in claim 1, characterized by crosslinking (model 2) through a bridging bond group having a pi electron between 4n+2 and 4n+5 (provided that n is 0 or an integer) along a chain on a carbon from the terminal of a polyene chain or an atom having a lone electron pair.例文帳に追加

ポリエン鎖の末端から炭素上に鎖にそって4n+2と4n+5(但し、nは0、または整数)の間でπ電子を持つ架橋結合基、または非結合電子対を持つ原子を介して架橋させる(モデル2)ことを特徴とする請求項1に記載の高分子の全体の電子状態を導電性に制御する方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor process simulation device which adopts an impurity diffusion model under the consideration of a dislocation loop for reducing a time and labor required for extracting the physical quantity of the dislocation loop from a transmission electron microscope picture.例文帳に追加

転位の輪を考慮に入れた不純物拡散モデルを取り入れた半導体プロセスシミュレーション装置において、転位の輪の物理量を透過電子顕微鏡写真から抽出する時間と労力を低減した半導体プロセスシミュレーション装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

例文

Variation amount of exposure conditions is calculated by obtaining an electron beam image of a first pattern part and a second pattern part, which are different in change tendency of a dimensional feature amount to variation of exposure conditions, calculating the dimensional feature amount of a first pattern part and a second pattern part and applying the dimensional feature amounts to a model which correlates exposure conditions and a dimensional feature amount.例文帳に追加

露光条件の変動に対する寸法特徴量の変化傾向が互いに異なる第1パターン部と第2パターン部の電子線像を取得し、第1パターン部および第2パターン部の寸法特徴量を算出し、これら寸法特徴量を露光条件と寸法特徴量を関連付けるモデルに当てはめることによって露光条件の変動量を算出するようにした。 - 特許庁

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