electron removalとは 意味・読み方・使い方

To provide an electricity removal apparatus which is capable of more surely preventing a container from being charged by being irradiated with electron beams.例文帳に追加

電子線照射による容器の帯電を、より確実に解消することのできる除電装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Further, a shape of the electron emitter 1 may be set along a shape of an equipotential surface, or a gas removal means may be provided for removing gas released from the electron emitter 1 out of the vacuum vessel 5.例文帳に追加

さらに、電子エミッタ１の形状を等電位面の形状に沿ったものにしたり、電子エミッタ１から放出されるガスを真空容器５から排除するガス排除手段を設けてもよい。 - 特許庁

If the dopant profile measurement is implemented by using an electron beam holography, the thin piece 2 is thinned down by sputtering the gas cluster ion beam 1 after an removal of the residual gallium layer 3 until an electron beam of 100-200 kV passes through it.例文帳に追加

電子線ホログラフィーを用いてドーパントプロファイル測定を行う場合は、残留ガリウム層3除去後の薄片2を100〜200kVの電子線が透過する厚さまでガスクラスターイオンビーム1のスパッタで薄くする。 - 特許庁

Instead of the removal of the surface substance by the driving force using the discharge in the gas, the surface substance can be removed by the irradiation of electron beams.例文帳に追加

また前記気体中での放電を駆動力とする表面物質の除去に代え、電子線の照射による表面物質の除去とすることができる。 - 特許庁

The shaft 13 includes a removal-proof plate 22 that is hanged and fixed on the support body 11 when the shaft 13 moves to the collected electron side due to the pressing of the spring member 15.例文帳に追加

シャフト１３にはバネ部材１５の押圧によりシャフト１３が集電子側へ移動した際に、支持体１１に掛け止められる抜け防止プレート２２が設けられている。 - 特許庁

When a conductive foreign substance removal probe is used, the foreign substance or the scraped residue of the foreign substance is subjected to composition analysis by Auger electron spectroscopy or secondary ion mass spectrometry.例文帳に追加

導電性の異物除去探針の場合にはオージェ電子分光法または二次イオン質量分析法で異物または異物の削り滓を組成分析する。 - 特許庁

The extracted residue is removed by physical removal by an AFM probe, electron beam gas assist etching, or focused ion beam gas assist etching to make the mold reusable.例文帳に追加

抽出された残渣をAFM探針による物理的な除去または電子ビームガスアシストエッチングまたは集束イオンビームガスアシストエッチングで除去してモールドを再利用可能にする。 - 特許庁

The presence of the two-dimensional electron gas removal regions 260A and 260B prevent the concentration of electron flows heading from the end part 212A of the source electrode 212 toward the end part 211A of the drain electrode 211 due to dynamic fluctuations in electric field at switching time.例文帳に追加

２次元電子ガス除去領域２６０Ａ,２６０Ｂの存在によって、スイッチング時の動的な電界変動によってソース電極２１２の端部２１２Ａからドレイン電極２１１の端部２１１Ａへ向かって電子流が集中することを回避できる。 - 特許庁