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etched lineとは 意味・読み方・使い方
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「etched line」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 68件
In one implementation, a bit line contact opening is etched after forming a bit line.例文帳に追加
一態様では、ビットラインコンタクト用開口は、ビットラインの形成後にエッチングされる。 - 特許庁
In one implementation, a bit line contact opening is etched through a previously-formed bit line.例文帳に追加
一態様において、ビットラインコンタクト用開口は、前以て形成されたビットラインを貫通してエッチングされる。 - 特許庁
The bit-line contact mask 40 is etched, and a silicon layer 45 is made to stick on a substrate 5.例文帳に追加
ビット線コンタクト・マスク４０がエッチングされ、シリコン層４５が基板５上に付着される。 - 特許庁
A trench is etched to a desired line shape in a field insulating material 66.例文帳に追加
トレンチが、フィールド絶縁材料６６内に所望のライン形状となるようにエッチングされる。 - 特許庁
Furthermore, a barrier metal layer 5, formed on the lower surface of the bit line 6, is etched selectively after formation of the bit line 6.例文帳に追加
さらに、ビット線６の形成後に、ビット線６の下面に形成されたバリアメタル層５を選択的にエッチングする。 - 特許庁
BGA PACKAGE HAVING HALF-ETCHED BONDING PAD AND CUT PLATING LINE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
ハーフエッチングされたボンディングパッド及び切断されたメッキラインを具備するＢＧＡパッケージ及びその製造方法 - 特許庁
After a trench is etched, a line oxide 110 is formed on the side wall of the trench.例文帳に追加
トレンチ１１６がエッチングされた後、トレンチ１１６の側壁の上にライナ酸化物１１０が作成される。 - 特許庁
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「etched line」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 68件
A wafer W whose unevenness state is previously known is coated with resist (r) and etched along a test line (center line) Le of the resist (r).例文帳に追加
予め凹凸の状況がわかっているウェハＷにレジストｒを塗布し、レジストｒのテストライン（中心線）Ｌｅに沿ってエッチングする。 - 特許庁
The etching line is composed of a just-etched part 30A for performing etching of a predetermined depth, and an over-etched part 30B for giving a inclination to the side edge face of an etching layer etched in the just-etched part 30A.例文帳に追加
基板１００を水平姿勢で水平方向へ搬送しながらその基板１００の表面にエッチング液を供給するエッチングラインを、所定深さのエッチング処理を実施するジャストエッチ部３０Ａと、ジャストエッチ部３０Ａでエッチングされたエッチング層のサイドエッジ面に傾斜を付与するオーバーエッチ部３０Ｂとにより構成する。 - 特許庁
Thus, the first wire block is partially etched and separated as each lead line 44a connected to the second wires.例文帳に追加
これにより、第１導線ブロックを、部分的にエッチングして、第２導線に接続する各リード線４４ａとして分離する。 - 特許庁
DEVICE AND METHOD OF PROMOTING METAL FATIGUE PROMOTING TRIMMED LINE PORTION, AND MANUFACTURING DEVICE OF ETCHED PRODUCT例文帳に追加
トリミング線部の金属疲労促進装置とトリミング線部の金属疲労促進方法、およびエッチング加工製品の製造装置 - 特許庁
Then the interlayer insulating film 14 on the common potential line COM is selectively etched to form a contact hole CH3.例文帳に追加
次に、共通電位線ＣＯＭ上の層間絶縁膜１４を選択的にエッチングしてコンタクトホールＣＨ３を形成する。 - 特許庁
An insulating layer 34 is deposited, and is etched along at least one portion of at least one sidewall of a line.例文帳に追加
絶縁層３４を堆積し、該絶縁層を、ラインの少なくとも一つの側壁の少なくとも一部分に沿ってエッチングする。 - 特許庁
Finally, the underlying film 14 is etched using the resist pattern 20 having a shrunk line width as a mask thus forming an underlying film pattern 22.例文帳に追加
次いで、線幅が縮小したレジストパターン２０をマスクとして下地膜１４をエッチングして、下地膜パターン２２を形成する。 - 特許庁
Etching state is inspected by inputting a plurality of line patterns 2 of different line widths to a copper foil pattern mask 1 in advance, and recognizing the presence or absence of a line pattern remaining in an etched printed substrate 3 by using the copper foil pattern mask 1 of a plurality of line patterns 2 of different line widths.例文帳に追加
銅箔パターンマスク１に予め線幅の異なる複数の線パターン２を入力し、前記線幅の異なる複数の線パターン２の内前記銅箔パターンマスク１を用いてエッチングが完了したプリント基板３に残った線パターンの有無を確認することによりエッチング状態を検査する。 - 特許庁
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