etched figureとは 意味・読み方・使い方

As shown in Figure (d), the bump forming metal layer 103 is partially etched to form bumps 106.例文帳に追加

図１（ｄ）に示すように、バンプ形成用金属層１０３を部分的にエッチングすることによりバンプ１０６を形成する。 - 特許庁

When the organic antireflective coating 104 is etched through the mask layer 105 from a state of a Figure (a) to obtain a state in a Figure (b), an opening dimension of an opening formed at the antireflective coating 104 is controlled by changing high-frequency power to be applied to generate plasma.例文帳に追加

図２（ａ）の状態から、マスク層１０５を介して有機系反射防止膜１０４のエッチングを行い、図２（ｂ）の状態とする時、プラズマを発生させるために印加する高周波電力の印加電力を変化させることによって、反射防止膜１０４に形成される開口部の開口寸法を制御する。 - 特許庁

After the formation of an interlayer insulation film 6, the interlayer insulation film 8 is etched by reactive ion etching with a resist pattern 8 as a mask so as to form the connection hole (Figure 1 (a)).例文帳に追加

層間絶縁膜６の形成後、接続孔を形成すべくレジストパターン８をマスクとして、反応性イオンエッチングにより層間絶縁膜８のエッチングを行なう（図１（ａ））。 - 特許庁

To provide a technology which inhibits damage to an object to be wet-etched due to an etching liquid in wet-etching and can obtain a fine etching figure.例文帳に追加

ウエットエッチングにおいてエッチング液によるウエットエッチングの対象物の損傷を抑制し、きれいなエッチング形状を得ることのできる技術を提供する。 - 特許庁

Using the etchant of hydrofluoric acid, the insulating film 3 of SiO_2 and the mask 2 of SiO_2 are etched to make a crestal plane 1RS of the ridge 1R exposed (Figure 1.D).例文帳に追加

フッ酸系のエッチング液により、SiO_2から成る絶縁膜３とSiO_2から成るマスク２をエッチングし、リッジ１Ｒの頂面１ＲＳを露出させる（図１．Ｄ）。 - 特許庁

As indicated in Figure (b), the silicon nitride film and the oxide film after the over-etching step has a reverse tapered shape in etching or a notched shape 5, while the trench is being etched.例文帳に追加

図１（ｂ）に示すようにオーバーエッチング後のシリコンチッカ膜、酸化膜エッチング形状は、逆テーパー形状またはノッチ形状５とし、トレンチのエッチングを行う。 - 特許庁

Then, as shown in the figure (b), the polysilicon layer 12 is etched with the selectively oxidized part 14 as a mask, to form a floating gate FG with a pointed end part 121.例文帳に追加

次に（ｂ）に示すように、選択酸化部１４をマスクにポリシリコン層１２をエッチングし、端部１２１が先鋭化したフローティングゲートＦＧを形成する。 - 特許庁