extrapure waterとは 意味・読み方・使い方

To efficiently perform washing and sterilizing for removing fine particles in an extrapure water manufacturing system in a short time.例文帳に追加

超純水製造システムの微粒子除去のための洗浄及び殺菌を短時間で効率的に行う。 - 特許庁

To make the extrapure water having extremely low TOC concentration and high purity by efficiently removing organic substances, especially low- molecular organic components, in raw water.例文帳に追加

原水中の有機物、特に低分子系有機物成分を効率的に除去して、ＴＯＣ濃度がきわめて低く、高純度な超純水を製造する。 - 特許庁

To provide an extrapure water manufacturing apparatus capable of preventing troubles resulting from a radical oxygen generated by ultraviolet rays irradiation.例文帳に追加

紫外線照射により発生するラジカル酸素に起因する不都合を防止した、超純水製造装置の提供が望まれている。 - 特許庁

In the extrapure water making device having the primary pure water system 2 and a subsystem 3 for treating the treated water of the primary pure water system 2, the organic substance in the raw water is biologically decomposed by passing the raw water through a biological active carbon tower in the presence of a limited amount of an antimicrobial agent at the primary pure water system 2.例文帳に追加

一次純水系システム２と、該一次純水系システム２の処理水を処理するサブシステム３とを有する超純水製造装置において、一次純水系システムにおいて、原水を制限された量の抗菌剤の存在下に生物活性炭塔に通水して原水中の有機物を生物的に分解する。 - 特許庁

In the extrapure water making device having the primary pure water system 2 and a subsystem 3 for treating the treated water of the primary pure water system 2, the organic substance in the raw water is biologically decomposed by passing the raw water through a biological active carbon tower under the condition that an antimicrobial agent is substantially absent, then the treated water is subjected to antimicrobial treatment at the primary pure water system 2.例文帳に追加

一次純水系システム２と、該一次純水系システム２の処理水を処理するサブシステム３とを有する超純水製造装置において、一次純水系システムにおいて、原水を実質的に抗菌剤の存在しない条件下で生物活性炭塔に通水して原水中の有機物を生物的に分解した後、抗菌処理する。 - 特許庁

The extrapure water manufacturing apparatus 1 is provided with an ultraviolet rays irradiation device 2, a liquid passing type electric double-layer capacitor 3, an ion exchange resin unit 4 and/or a reverse osmotic membrane unit.例文帳に追加

紫外線照射装置２、通液型電気二重層コンデンサ３、イオン交換樹脂装置４及び／又は逆浸透膜装置を備えた超純水製造装置１である。 - 特許庁

A semiconductor substrate having a metal film on the surface thereof is stored in a closed vessel, being immersed in extrapure water having a dissolved oxygen concentration of 300ppb or below.例文帳に追加

基板表面に金属薄膜が形成された半導体基板を密封容器内で溶存酸素濃度が３００ｐｐｂ以下の超純水に浸漬して保管する。 - 特許庁

This method is a method in which a film is extracted with an extrapure water, and then the extracted liquid is measured using an ion chromatography, an in-liquid particle counter, a combined induction plasma-mass spectrometer, and an atomic absorption photometer.例文帳に追加

フィルムを超純水で抽出し、その抽出液をイオンクロマトグラフ、液中パーティクルカウンター、結合誘導プラズマ−質量分析計、原子吸光分光光度計により測定する方法である。 - 特許庁