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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 日英・英日専門用語 > facing target sputteringの意味・解説 

facing target sputteringとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 対向ターゲット型スパッタリング; 対向ターゲット形スパッタリング


日英・英日専門用語辞書での「facing target sputtering」の意味

facing target sputtering


「facing target sputtering」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 39



例文

FACING TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

対向ターゲット式スパッタ装置 - 特許庁

FACING TARGET SPUTTERING METHOD例文帳に追加

対向ターゲットスパッタ法 - 特許庁

FACING TARGET SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

対向ターゲット式スパッタ装置 - 特許庁

FACING-TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS AND FACING-TARGET TYPE SPUTTERING METHOD例文帳に追加

対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 - 特許庁

FACING-TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS, AND FACING-TARGET TYPE SPUTTERING METHOD例文帳に追加

対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 - 特許庁

FACING TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS FOR THIN FILM COMPOSITE MEMBRANE例文帳に追加

複層膜用対向ターゲット式スパッタ装置 - 特許庁

例文

FACING TARGET SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

対向ターゲット式スパッタリング装置 - 特許庁

>>例文の一覧を見る


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Weblio専門用語対訳辞書での「facing target sputtering」の意味

facing target sputtering

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「facing target sputtering」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 39



例文

FACING TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS CAPABLE OF CONTROLLING COMPOSITION RATIO例文帳に追加

組成比制御が可能な対向ターゲット式スパッタ装置 - 特許庁

To provide a facing target sputtering apparatus and a facing target sputtering method in each of which a film deposition rate is improved.例文帳に追加

成膜速度を向上させた対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a facing-target type sputtering apparatus having an improved film-forming speed, and to provide a facing-target type sputtering method.例文帳に追加

成膜速度を向上させた対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法を提供する。 - 特許庁

FACING TARGET SPUTTERING DEVICE AND METHOD例文帳に追加

対向ターゲットスパッタ装置及び対向ターゲットスパッタ方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC LIGHT EMITTING ELEMENT USING FACING TARGET TYPE SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

対向ターゲット式のスパッタリング装置を用いた有機発光素子の製造方法 - 特許庁

BOX TYPE FACING TARGET SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF PRODUCING COMPOUND THIN FILM例文帳に追加

箱型対向ターゲット式スパッタ装置及び化合物薄膜の製造方法 - 特許庁

A substrate 34 is disposed facing the front side of the target 32 in a sputtering chamber 30.例文帳に追加

スパッタリングチャンバ30内に基板34をターゲット32前面に向かうように配置させる。 - 特許庁

例文

To provide a film-forming method by sputtering, which can efficiently form the thin film with the use of a facing-target type sputtering apparatus.例文帳に追加

対向ターゲット式スパッタ装置を用いて能率良く薄膜を形成できるスパッタ成膜方法を提供する。 - 特許庁

>>例文の一覧を見る


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