field exposuresとは 意味・読み方・使い方

To reduce the number of light exposures in a manufacturing process of a liquid crystal panel of a lateral electric field mode, in which a common electrode is formed on a top layer thereof.例文帳に追加

最上層に共通電極が形成された横電界方式の液晶パネルの製造工程において、露光の回数を低減する。 - 特許庁

A digital imaging device having a CCD sensor array with one or more fields captures both short and long exposures of a particular field during the capture of a single image frame.例文帳に追加

１以上のフィールドを有するＣＣＤセンサアレイを備えるデジタル画像装置が、単一画像フレームを取り込む間、特定のフィールドの長短両方の露出を得る。 - 特許庁

The digital imaging device having a CCD sensor array with at least one field captures both short and long exposures of a particular field during the capture of a single image frame, the short-exposure image data from the particular field being used to extend the dynamic range of clipped pixel data.例文帳に追加

少なくとも１つのフィールドを有するＣＣＤセンサアレイを備えたデジタル撮像装置は、単一画像フレームの取り込み中、特定のフィールドの短露出および長露出の両方を取り込み、特定のフィールドからの短露出画像データは、クリッピングされた画素データのダイナミックレンジを拡張するのに使用される。 - 特許庁

A shutter of a digital image pickup device can be calibrated by comparing characteristics of two different exposures resulting from one field of an imaging sensor of the digital image pickup device during a single exposure cycle.例文帳に追加

単一の露光サイクル中にデジタル撮像装置の撮像センサの１つのフィールドから得られた２つの別個の露光の特性を比較することによって、デジタル撮像装置のシャッターを較正することができる。 - 特許庁

Desirably, the step of calculating the target aspect ratio comprises finding a first target aspect ratio that maximizes a figure of merit MF, where MF is the ratio of the number of dies exposed in each image field divided by the number of exposures on each substrate.例文帳に追加

望ましくは、ターゲットアスペクト比を計算するステップは、メリット数ＭＦを最大化する第１のターゲットアスペクト比を見つけることを含み、ＭＦは、各イメージフィールドで露光されるダイの数を各基板上の露光回数で除した比率である。 - 特許庁