flash chamberとは 意味・読み方・使い方

The entire surface of the upper chamber window 63 is made rough and hence the semiconductor wafer W can be irradiated uniformly with the flash light of relatively low energy when flash heating without specifically changing a flash heating part 5.例文帳に追加

上側チャンバー窓６３の表面は全面に渡って粗面とされており、フラッシュ加熱部５に特別な変更を行うことなく、フラッシュ加熱時に半導体ウェハーＷに比較的低いエネルギーの閃光を均一に照射することができる。 - 特許庁

Under this state, by performing flash irradiation without carrying in a semiconductor wafer into the chamber 6, the particles inside the chamber 6 are scattered and exhausted out of the chamber 6 along with the nitrogen gas flow.例文帳に追加

この状態でチャンバー６内に半導体ウェハーを搬入することなくフラッシュ照射を行うことにより、チャンバー６内のパーティクルを飛散させて窒素ガス流とともに外部に排出する。 - 特許庁

When a semiconductor wafer W is heat-treated by being irradiated with flash light from a flash lamp FL, a holding unit 7 holding the semiconductor wafer F is moved to a processing position near a chamber window 61.例文帳に追加

フラッシュランプＦＬからフラッシュ光を照射して半導体ウェハーＷの加熱処理を行うときには半導体ウェハーＷを保持する保持部７をチャンバー窓６１に近接した処理位置に移動させる。 - 特許庁

Even if the fuel of the fuel cell housed in the cell chamber 17 leaks, the concentration of the leaked fuel is lowered by the time the leaked fuel reaches the flash part, and possibility that the fuel ignites the flash part gets low.例文帳に追加

これにより、電池室１７に収納されている燃料電池の燃料がたとえ漏れたとしても、漏れた燃料がフラッシュ部に到達するまでにその濃度が下がり、フラッシュ部でその燃料が引火する可能性が低下する。 - 特許庁

In a heat treatment device 1, flash light is emitted from a flash lamp FL to a semiconductor wafer W stored in a chamber 6 to perform heat treatment.例文帳に追加

熱処理装置１は、チャンバー６内に収容した半導体ウェハーＷにフラッシュランプＦＬからフラッシュ光を照射して加熱処理を行う。 - 特許庁

After atmosphere replacement in the chamber 6, flash light is emitted from a flash lamp FL of a light irradiation part 5 toward the semiconductor wafer W to perform a calcination process on the thin film.例文帳に追加

チャンバー６内の雰囲気置換が行われた後、光照射部５のフラッシュランプＦＬから半導体ウェハーＷに向けてフラッシュ光が照射され、薄膜の焼成処理が行われる。 - 特許庁

A flash part consisting of a light emitting part 14, the circuit board 15 of a flash circuit, and a capacitor 16 are arranged on the right side in Fig., and a cell chamber 17 is arranged on the left side in Fig. in the casing of a camera 1.例文帳に追加

発光部１４、フラッシュ回路の回路基板１５、および、コンデンサ１６からなるフラッシュ部が、カメラ１の筺体の図中右側に配置され、電池室１７が、図中左側に配置される。 - 特許庁

A conveyance arm 151b which receives a semiconductor wafer after the completion of the flash heating from the chamber is formed of quartz.例文帳に追加

フラッシュ加熱後の半導体ウェハーをチャンバーから受け取る搬送アーム１５１ｂは石英にて形成されている。 - 特許庁