flash chamberとは 意味・読み方・使い方

In a heat treatment device 1, flash light is emitted from a flash lamp FL to a semiconductor wafer W stored in a chamber 6 to perform heat treatment.例文帳に追加

熱処理装置１は、チャンバー６内に収容した半導体ウェハーＷにフラッシュランプＦＬからフラッシュ光を照射して加熱処理を行う。 - 特許庁

The flash chamber 9 can be kept warm efficiently in a simple structure by being kept warm by the secondary steam in the heat reserving chamber 10.例文帳に追加

フラッシュ室９を保温室１０の二次側蒸気によって保温することにより、フラッシュ室９を簡単な構造で効率よく保温することができる。 - 特許庁

Consequently, the semiconductor wafer is carried out of the chamber without being broken after the completion of the flash heating.例文帳に追加

その結果、フラッシュ加熱終了後に半導体ウェハーを割ることなくチャンバーから搬出することができる。 - 特許庁

A conveyance arm 151b which receives a semiconductor wafer after the completion of the flash heating from the chamber is formed of quartz.例文帳に追加

フラッシュ加熱後の半導体ウェハーをチャンバーから受け取る搬送アーム１５１ｂは石英にて形成されている。 - 特許庁

Under this state, by performing flash irradiation without carrying in a semiconductor wafer into the chamber 6, the particles inside the chamber 6 are scattered and exhausted out of the chamber 6 along with the nitrogen gas flow.例文帳に追加

この状態でチャンバー６内に半導体ウェハーを搬入することなくフラッシュ照射を行うことにより、チャンバー６内のパーティクルを飛散させて窒素ガス流とともに外部に排出する。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus wherein a substrate can be carried out of a chamber without being broken after the completion of flash heating.例文帳に追加

フラッシュ加熱終了後に基板を割ることなくチャンバーから搬出することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

Thus, the chamber 5 in a shape corresponding to the characteristics of both of the halogen lamp 31 and the flash lamp 41 is obtained.例文帳に追加

これにより、ハロゲンランプ３１、フラッシュランプ４１両方の特性に応じた形状のチャンバー５を得ることができる。 - 特許庁

When the getter flash performed in the vacuum chamber is detected, an illuminance detector 10 disposed outside the vacuum chamber 5 detects a light emission area of a getter material in the vacuum chamber through an observation window 23 provided in the vacuum chamber.例文帳に追加

真空チャンバ内にて行われるゲッターフラッシュを検知する際、真空チャンバ５の外部に配設された照度検出器１０により、真空チャンバに設けられた観察窓２３を通して真空チャンバ内におけるゲッター材の発光面積を検出する。 - 特許庁