frame alignerとは 意味・読み方・使い方

The aligner is provided with a gas introducing system circulating gas in space sealed by the pellicle film, the photomask substrate and the frame from the opening of the frame.例文帳に追加

さらに、フォトマスク台は、フレームの開口から、ペリクル膜と、フォトマスク基板と、フレームとによって封じられる空間に、気体を流通させる、気体導入システムを備えることを特徴とする露光装置。 - 特許庁

The aligner is equipped with mask holder 5, which mounts the mask M, and the mask M has a pellicle frame 3 which mounts a pellicle 2 on the mask M, and the pellicle frame 3 is equipped with a support part 4 supporting the mask M.例文帳に追加

露光装置は、マスクＭを載置するマスクホルダ５を備えており、マスクＭはペリクル２をマスクＭに装着するペリクル枠３を有し、ペリクル枠３には、マスクＭを支持する支持部４を備えている。 - 特許庁

A memory for monitoring multi spots 1 for delaying one frame is used in common as a memory for inserting/removing delay which fix-delays at most one frame by a selecting part 6 at the time of establishing synchronization to eliminate the memory for inserting/removing the delay of a frame aligner circuit 3.例文帳に追加

１フレーム遅延させる多点監視用メモリ１を、同期確立時は選択部６により１フレーム以下の固定遅延させる遅延挿脱用のメモリとして共用化を計り、フレームアライナ回路３の遅延挿脱用のメモリを削減する。 - 特許庁

To provide a frame member which can accurately perform stable exposure processing, without sagging a mask supported by a mask stage, and to provide the mask and an aligner.例文帳に追加

マスクステージに支持されたマスクをたわませること無く、精度良く安定した露光処理を行うことができる枠部材、マスクと露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To make an integrated circuit high integration density and low in power consumption by eliminating a memory and an erroneous synchronization avoiding circuit in a circuit of a frame synchronization system by multi-spot monitoring and whose frame aligner uses a delay inserting/removing system.例文帳に追加

多点監視によるフレーム同期方式であり、かつフレームアライナが遅延挿脱方式を採用している回路において、メモリの削減をするとともに誤同期回避回路の削減を実施し、集積回路の集積度、低消費電力化を実現することにある。 - 特許庁

To provide a substrate exposing method and an aligner by which the warpage and wrinkles or the like of a film-like substrate such as a multi- layer substrate placed on the upper face of a lower frame are eliminated and alignment work with a mask film stuck and fixed at an upper frame is easily and surely performed.例文帳に追加

下枠の上面に載置される多層基板基板等のフィルム状の基板の反りまたは皺等を除き、上枠に被着固定されたマスクアフィルムとのライメント作業を簡単確実にする基板露光方法および露光装置を提供すること。 - 特許庁

In the aligner equipped with a light irradiation mechanism 3 radiating the exposing light, a mask stage mechanism 4 having the frame body 31 holding the mask 200 on which the pattern is formed, and a work stage mechanism 5 holding the work 100, a heat insulating member 39 is installed on the mechanism 4 so as to cover the frame body 31.例文帳に追加

露光光を照射する光照射機構３と、パターンが形成されたマスク２００を保持する枠体３１を有するマスクステージ機構４と、ワーク１００を保持するワークステージ機構５とを備えた露光装置において、断熱部材３９が前記枠体３１を覆うようにマスクステージ機構４に設置された構成にしてある。 - 特許庁

The treatment apparatus having a processing liquid tank in which predetermined processing is applied to photographic paper exposed by an aligner is provided with a frame body 30 constituting a transportation opening into which the photographic paper is carried in, a pair of elastic rollers 35 provided at the transportation opening to transport the photographic paper, and rollers 36 interposed in a gap between the elastic roller 35 and the frame body 30, respectively.例文帳に追加

露光装置によって露光された印画紙に対して、所定の処理を行う処理液槽を有する処理装置であって、印画紙が搬入される搬送口を構成する枠体３０と、搬送口に設けられ、印画紙を搬送する一対の弾性ローラ３５と、弾性ローラ３５と枠体３０との隙間にそれぞれ介在するローラ３６と、を備える。 - 特許庁