gas atomとは 意味・読み方・使い方

ASYMMETRIC MEMBRANE FORMED BY Si ATOM CONTAINING POLYIMIDE, GAS SEPARATING MEMBRANE AND GAS SEPARATING METHOD例文帳に追加

Ｓｉ原子含有ポリイミドによって形成された非対称膜、ガス分離膜、及びガス分離方法 - 特許庁

A silicon nitride film, a silicon dioxide film, and a silicon oxynitride film including the carbon atom are formed on the wafers 200 by supplying the gas including at least the gas inculuding the silicon atom and the gas including the carbon atom to the wafers 200.例文帳に追加

ウェハ２００に対して少なくともシリコン原子を含むガスと、カーボン原子を含むガスとを供給して、ウェハ２００にカーボン原子を含むシリコン窒化膜、シリコン酸化膜、またはシリコン酸窒化膜を形成する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises the steps of mixing hydrogen gas with the HMDS and reactant gas consisting of gas containing nitrogen atom gas and/or gas containing oxygen atom gas; and varying the carbon contents of the silicon film (SiN film, SiO_2 film, and SiON film) by changing the mixing ratio of the reactant gas and the hydrogen gas.例文帳に追加

ＨＭＤＳと窒素原子含有ガス及び／又は酸素原子含有ガスとから成る反応ガスに水素ガスを混合し、反応ガスと水素ガスとの混合比を変化させることにより、シリコン系膜（ＳｉＮ膜、ＳｉＯ_２膜、ＳｉＯＮ膜）の炭素含有量を変化させる。 - 特許庁

When a single atom ion beam is irradiated, the single atom ion formed in the ion source 1 is irradiated without introducing the gas into the gas supply part 11.例文帳に追加

単原子イオンビームを照射する場合には、ガス供給部１１にガスを導入せずに、イオン源１で生成された単原子イオンを照射する。 - 特許庁

Then, this interface part contains an inert gas element of ≥0.1 atom%.例文帳に追加

そして、この界面部は、不活性ガス元素を0.1原子％以上含有する。 - 特許庁

This gas treatment method for treating the gas wherein the silicon atom and the halogen atom are contained in the atmosphere includes a process for treating the gas with an aqueous solution containing hydrofluoric acid.例文帳に追加

雰囲気中に、シリコン原子及びハロゲン原子を含むガスのガス処理方法において、フッ化水素酸を含む水溶液によって処理を行なう工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a halogen gas removing agent suitable for efficiently removing a halogen gas in waste gas discharged from a step for producing a halogen atom-containing gas used in semiconductor manufacture or from a semiconductor manufacturing step and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

排ガス中のハロゲンガスを安全且つ効率的に除去し、下流側にリークさせることの無い除去剤を提供すること。 - 特許庁

(c) After the step (b), the resultant is subjected to a heat treatment in an oxygen atom-containing gas.例文帳に追加

（ｃ）前記工程（ｂ）の後、酸素原子含有ガス中で熱処理を行う。 - 特許庁