helium groupとは 意味・読み方・使い方

It is preferable that the ultrafine particles dispersed in the medium are made of an intercalated compound and that the intercalated compound contains at least one element selected from the group consisting of hydrogen, oxygen, chlorine, fluorine, helium, and argon.例文帳に追加

媒体中に分散される超微粒子が層間化合物であり、当該層間化合物が、水素、酸素、塩素、フッ素、ヘリウム及びアルゴンから成る群の中から選ばれた少なくとも一種の元素を含むように構成することも推奨される。 - 特許庁

The film formation may be executed in the presence of a noble gas such as helium, argon or xenon, chain hydrocarbons having the number of carbons of 2-3 such as ethane or propane, or chain unsaturated hydrocarbon having a hydrocarbon group having the number of carbons of 2-3 such as ethylene, acetylene or propylene.例文帳に追加

ヘリウム、アルゴン、キセノンなどの希ガス、エタン、プロパンなどの炭素数２〜３の鎖状炭化水素、エチレン、アセチレン、プロピレンなどの炭素数２〜３の炭化水素基を有する鎖状不飽和炭化水素を成膜時に同伴させてもよい。 - 特許庁

The film formation may be executed in the presence of a noble gas such as helium or argon, chain hydrocarbons of the number of carbons of 2-3, CO_2, O_2, H_2O, NO, N_2O, NO_2, CO, H_2, a chain hydrocarbon having a hydrocarbon group having the number of carbons of 2-3, alcohols or ethers.例文帳に追加

ヘリウム、アルゴンなどの希ガス、炭素数２〜３の鎖状炭化水素、ＣＯ_２、Ｏ_２、Ｈ_２Ｏ、ＮＯ、Ｎ_２Ｏ、ＮＯ_２、ＣＯ、Ｈ_２、炭素数２〜３の炭化水素基を有する鎖状炭化水素、アルコール類、エーテル類を成膜時に同伴させてもよい。 - 特許庁

In addition, a fire extinguishing agent 60 is housed in the fire extinguishing agent storage container 10 and at least light one inert gas selected from a group consisting of argon gas and nitrogen gas and at least one light element gas selected from a group consisting of helium gas and hydrogen gas are sealed in the fire extinguishing agent storage container 10 by closing the opening part of the fire extinguishing agent storage container 10.例文帳に追加

加えて、蓄圧式消火器１００は、消火剤貯蔵容器内１０に、消火剤６０が収容されるとともに、その開口部を閉塞することによりアルゴンガスと窒素ガスからなる群から選択される少なくとも１つの不活性ガス及びヘリウムガスと水素ガスとからなる群から選択される少なくとも１つの軽元素ガスが封入されている。 - 特許庁

This method for producing a low loss optical material contains a freeze-deaeration process freeze-deaerating at least a monomer among an organic substance group having a liquid monomer and a polymerization process polymerizing a polymerizable material containing at least a monomer, and contains a process bubbling at least a liquid monomer among an organic substance group with a helium gas before the freeze-deaeration process.例文帳に追加

本発明は、液状のモノマーを有する有機物群のうち少なくともモノマーを凍結脱気する凍結脱気工程と、少なくともモノマーを含む重合性材料を重合させる重合工程とを含む低損失光学材料の製造方法であって、凍結脱気工程前に、有機物群のうち少なくとも液状のモノマーをヘリウムガスでバブリングする工程を含む。 - 特許庁

A semiconductor device includes: a HBT 130 which is formed on a GaAs substrate 101 and includes a group III-V compound semiconductor; and a semiconductor resistor element 120 which is formed on the GaAs substrate 101, and made of at least one layer included in a semiconductor epitaxial layer included in the HBT 130, and the semiconductor resistor element 120 includes helium impurities.例文帳に追加

本発明の半導体装置は、ＧａＡｓ基板１０１上に形成され、３−５族化合物半導体から構成されるＨＢＴ１３０と、ＧａＡｓ基板１０１上に形成され、ＨＢＴ１３０を構成する半導体エピタキシャル層の少なくとも１層から構成される半導体抵抗素子１２０とを備え、半導体抵抗素子１２０は、ヘリウム不純物を含む。 - 特許庁

A method for changing the refractive index of a Bragg fiber grating includes a step of exposing an element made of germanium silicate glass to a laser radiation; and the laser radiation is selected from a group of a radiation that an argon laser emits, a third higher harmonic of a radiation of a neodymium laser, a radiation of a nitrogen laser, a radiation of a Krypton laser, and a helium laser and has a wavelength from 333 to 364 nm.例文帳に追加

ブラッグファイバー格子の屈折率変更方法は、ケイ酸ゲルマニウムガラスから形成した素子をレーザー放射にさらす工程を含み、当該レーザー放射を、アルゴンレーザーが発する放射、ネオジムレーザーの放射の第３高調波、窒素レーザーの放射、クリプトンレーザーの放射、及びヘリウム−カドミウムレーザーの放射からなる群より選び、当該放射の波長を３３３〜３６４ｎｍの範囲とする。 - 特許庁