high frequency sputteringとは 意味・読み方・使い方

To uniformize the feed of high-frequency electric power to plasma in a high-frequency sputtering device and to execute uniform film forming treatment.例文帳に追加

高周波スパッタリング装置において、プラズマへの高周波電力の供給を均一にして均一な成膜処理を可能にする。 - 特許庁

To form an insulating film good in insulating pressure-resistance on a substrate by high frequency bias sputtering.例文帳に追加

高周波バイアススパッタリングにより絶縁耐圧の良い絶縁膜を基板に成膜すること - 特許庁

High frequency plasma (e.g. inert gas plasma of Ar+) is generated in a sputtering chamber.例文帳に追加

スパッタチャンバにおいて高周波プラズマ（例えばＡｒ+ 等の不活性ガスプラズマ）を発生させる。 - 特許庁

To provide a high-quality magnetoresistive thin film by using a method for controlling self bias of a high-frequency sputtering device.例文帳に追加

高周波スパッタリング装置の自己バイアスを制御する手法により高品質の磁気抵抗薄膜を提供する。 - 特許庁

The Pt-Cu base alloy is retained on the conductive carbon by high frequency sputtering.例文帳に追加

さらに、Ｐｔ−Ｃｕ系合金は、高周波スパッタリングによって導電性カーボンに担持されている。 - 特許庁

In the sputtering step, a high frequency power (RF1) is supplied to an antenna coil 23, and a sputtering gas plasma is formed inside a vacuum tub 21.例文帳に追加

スパッタ工程では、アンテナコイル２３に高周波電力（ＲＦ１）を供給して、真空槽２１内にスパッタ用ガスのプラズマを形成する。 - 特許庁

MAGNETRON REACTOR MADE OF METAL AND FEEDING HIGH DENSITY INDUCTION COUPLING HIGH FREQUENCY PLASMA SOURCE SPUTTERING DIELECTRIC FILM例文帳に追加

金属製及び誘電体膜をスパッタリングする高密度誘導結合高周波プラズマ源を供給するマグネトロンリアクタ - 特許庁

Substrate film of a transition metal is formed on a quartz glass substrate by sputtering with a high frequency sputtering device and vanadium dioxide film is formed on the substrate film by reactive sputtering.例文帳に追加

高周波スパッタリング装置を用いて、石英ガラス基板の上にスパッタリングによって遷移金属の下地膜を成膜し、その上に反応性スパッタリングによって二酸化バナジウムを成膜する。 - 特許庁