insulating padとは 意味・読み方・使い方

The second insulating layer is etched, a collar insulating layer is formed on the pad layer structure in the trench and a side wall of the pad oxide layer, and the bottom insulating layer is eliminated in accordance with the formation of the collar insulating layer.例文帳に追加

次に第２絶縁層をエッチングして、トレンチ内のパッド層構造及びパッド酸化物層側壁にカラー絶縁層を形成し、これに伴って底部絶縁層を除去する。 - 特許庁

After a pad oxide layer is formed on a side wall of the substrate above the bottom insulating layer, a second insulating layer is formed, thereby covering the pad oxide layer, the pad layer structure and a surface of the bottom insulating layer.例文帳に追加

続いて底部絶縁層上方の基板側壁にパッド酸化層物を形成した後第２絶縁層を形成することにより、パッド酸化層、パッド層構造と底部絶縁層表面を被覆する。 - 特許庁

Then, an insulating layer and a copper foil are disposed on the connection pad in that order.例文帳に追加

その後、絶縁層及び銅箔が接続パッド上に順に配置される。 - 特許庁

The pad electrode 121 is formed on the second insulating film 160.例文帳に追加

パッド電極１２１は、第２の絶縁膜１６０の上に形成されている。 - 特許庁

A second interlayer insulating film 6 is arranged by covering the first interlayer insulating film 3 and the silicide pad 5, and a tungsten plug 7 is arranged on the silicide pad 5.例文帳に追加

第１層間絶縁膜３及びシリサイドパット５を覆って第２層間絶縁膜６が配置され、シリサイドパッド５上にはタングステンプラグ７が配置されている。 - 特許庁

An electrode pad 120 is formed in a surface layer of an insulating layer 110 first.例文帳に追加

まず絶縁層１１０の表層に電極パッド１２０を形成する。 - 特許庁

The second interlayer insulating film is formed by avoiding a pad formation region consisting of a region where the pad is formed and the peripheral reign of the pad.例文帳に追加

第２層間絶縁膜は、上記パッドが形成される領域と当該パッドの周辺の領域とからなるパッド形成領域を避けて形成されている。 - 特許庁

The second insulating layer includes a fourth opening 16a for exposing the pad portion.例文帳に追加

第二絶縁層がパッド部を露呈させる第四開口部１６ａを有する。 - 特許庁