ion monitorとは 意味・読み方・使い方

To provide an ion monitor with a simple structure capable of measuring an ion level in a sample liquid at a low price.例文帳に追加

構造が簡単で安価にサンプル液中のイオンレベルが測定できるイオンモニタを提供する。 - 特許庁

In this ion monitor, a cell 10 partitioned by two ion exchange membranes 11, 12 is provided between a set of a negative electrode 20 and a positive electrode 30, and the inside of the cell 10 is filled with an ion exchange resin 13.例文帳に追加

一組の陰極２０と陽極３０との間に、２枚のイオン交換膜１１，１２で仕切られたセル１０を配設し、このセル１０の内部にはイオン交換樹脂１３が充填してある。 - 特許庁

An amount of wear of an ion beam current detecting plate at a replacement time for the ion beam current detecting plate is preliminarily set and inputted to a set value input circuit 10 of an ion beam current detecting plate wear monitor 8.例文帳に追加

あらかじめイオンビーム電流検出板削れモニタ８の設定値入力回路１０に、イオンビーム電流検出板２の交換時期のイオンビーム電流検出板２の削れ量を設定入力する。 - 特許庁

This ion implanting device includes an ion source 100 for generating an ion beam 50, an electron beam source Gn for emitting an electron beam 138 scanned in the Y direction in the ion source 100, a power source 114 for the electron beam source, an ion beam monitor 80 for measuring the Y direction beam current distribution of the ion beam 50 in the vicinity of the implanting position, and a control device 90.例文帳に追加

このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、イオン源１００内でＹ方向に走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。 - 特許庁

This ion beam irradiation device is equipped with an ion source to generate an ion beam 4, an electron beam source G to emit an electron beam two-dimensionally scanned in the ion source 2, a power supply 14 for it, an ion beam monitor 10 to measure the two-dimensional beam current distribution of the ion beam 4 at a position equivalent to the substrate, and a control device 12.例文帳に追加

このイオンビーム照射装置は、イオンビーム４を発生するイオン源２と、イオン源２内で２次元で走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇと、それ用の電源１４と、基板相当位置におけるイオンビーム４の２次元のビーム電流分布を測定するイオンビームモニタ１０と、制御装置１２とを備えている。 - 特許庁

This invention generally provides methods and the apparatus to monitor an ion dose during the plasma processing.例文帳に追加

本発明は、一般に、プラズマプロセス中にイオンドーズ量を監視する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

An image pick-up element 13 to monitor move of the float is provided, so that the tilt angle of the platen can be monitored, thereby quality of ion implantation is improved.例文帳に追加

また、浮子の動きを監視する撮像素子１３を設けることによってプラテンの傾斜角度をモニタし、イオン注入の品質が向上させる。 - 特許庁

To monitor blow stop or drop or other blast trouble of a blower, in a blast type ion generator.例文帳に追加

送風型イオン発生器において、送風機の送風停止や低下やその他の送風異常を監視することができるようにする。 - 特許庁