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junction depthとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 接合深さ; 接合深度

JST科学技術用語日英対訳辞書での「junction depth」の意味

junction depth


「junction depth」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 83



例文

To provide a semiconductor device in which a junction comprising a definite depth is formed with satisfactory reproducibility.例文帳に追加

一定の深さを有する接合を再現性よく形成する。 - 特許庁

In other words, the depth of the junction of the source/drain diffused layer 6 can be controlled with the depth of the crystal confused layer, and a shallow junction can be obtained easily.例文帳に追加

即ち、結晶状態が乱された領域の深さでソース/ドレイン拡散層の接合の深さを制御することができ、容易に浅い接合が得られる。 - 特許庁

Thereafter, a pn junction 104 is formed at a third depth C shallower than the second depth B by ion implantation.例文帳に追加

この後、イオン注入により第2の深さBよりも浅い第3の深さCにpn接合104を形成する。 - 特許庁

The first source/drain region 126 has a junction depth which is specified by phosphorus and is larger than the junction depth of the second source/drain region 146.例文帳に追加

第1のソースドレイン領域126において、リンによりジャンクション深さが規定され、当該ジャンクション深さが第2のソースドレイン領域146のジャンクション深さよりも深い。 - 特許庁

A pn junction formation of the n-type layer is diffused from the depth d1 to a depth d2 deeper than the depth d1, and forms a pn junction of a photodiode together with the p-type well in the depth d2.例文帳に追加

N型層のPN接合形成部分は深さd1から当該深さd1よりも深いd2まで拡散されており、当該PN接合形成部分は深さd2においてP型ウェルとともにフォトダイオードのPN接合を形成している。 - 特許庁

In order to obtain high mobility, by optimizing the formed depth of the buried channel area, the ratio (Lbc÷Xj) of the junction depth (Lbc) of the buried channel area to the junction depth (Xj) of source and drain areas is adjusted to be 0.2-1.0.例文帳に追加

その埋め込みチャネル領域の形成される深さを最適化して高い移動度が得られるようにするために、埋め込みチャネル領域の接合深さ(L_bc)と、ソースとドレイン領域の接合部の深さ(X_j)との比(L_bc÷X_j)が0.2以上、1.0以下にする。 - 特許庁

例文

Further, the narrowest section of a channel 14 is made deeper than the half depth of the junction of the p-type gate region 13.例文帳に追加

また、チャネル14の最狭部をp型ゲート領域13の接合の1/2よりも深くする。 - 特許庁

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「junction depth」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 83



例文

To control the depth of a junction by suppressing excessively rate- increased diffusion when a shallow junction is formed in the manufacturing process of a MOSFET.例文帳に追加

MOSFETの製造過程で、シャロージャンクションを形成する場合に過度増速拡散を抑制して接合の深さを制御できるようにする。 - 特許庁

The trenches 29 are formed in a depth of (b), which is shallower than the deepest junction depth (a) of the channel layer 26, and the trenches 29 are formed so as to be in contact with a p-n junction of the channel layer 26.例文帳に追加

チャネル層26の最も深い接合深さaよりもトレンチ29の深さ寸法bを浅く形成し、トレンチ29は側面でチャネル層26のpn接合と接するように形成する。 - 特許庁

To form an extension portion of an optimal junction depth even if a gate length is extremely short.例文帳に追加

ゲート長の短縮に対応して最適な接合深さのエクステンション部を形成できなくなってきている。 - 特許庁

By this oxidation, the depth of pn junction made between the P well 6 and the N-type region 6 becomes shallow.例文帳に追加

この酸化により、Pウェル5とN型領域6で形成されるpn接合深さが浅くなる。 - 特許庁

The n-type well region 19 has a lower impurity concentration and a deeper junction depth than the n-type drain region 15, and the n-type low concentration impurity region 17 has a lower impurity concentration and a deeper junction depth than the n-type drain region 7, and has a higher impurity concentration and a shallower junction depth than the n-type well region 19.例文帳に追加

N型ウェル領域19はN型ドレイン領域15に比べて不純物濃度が低く接合深さが深く、N型低濃度不純物領域17はN型ドレイン領域7に比べて不純物濃度が低く接合深さが深く、かつN型ウェル領域19に比べて不純物濃度が高く接合深さが浅い。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the depth of extremely shallow junction is controlled precisely, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

極浅接合の深さが精密制御された半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To realize a semiconductor device having a shallow junction depth by suppressing excessive accelerated diffusion.例文帳に追加

過度増速拡散を抑制することにより浅い接合深さを持つ半導体装置を実現できるようにする。 - 特許庁

例文

A terminal end layer 21 larger in junction depth than the p-type base layer 14 is formed in the terminal end region.例文帳に追加

終端領域には、このp型ベース層14より接合深さが大きい終端層21が形成される。 - 特許庁

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