lattice temperatureとは 意味・読み方・使い方

To provide a manufacturing method for Heusler metal capable of actualizing ordering of a crystal lattice at a comparatively low temperature.例文帳に追加

比較的に低い温度で結晶格子の規則化を実現することができるホイスラー金属の製造方法を提供する。 - 特許庁

The heat treatment temperature of the second heat treatment is set lower than a temperature at which the lattice size of the disilicide MSi_2 of the metal element M coincides with that of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

第２の熱処理の熱処理温度は、金属元素ＭのダイシリサイドＭＳｉ_２の格子サイズと半導体基板１の格子サイズが一致する温度よりも低くする。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser where single-mode oscillation specified due to Bragg diffraction lattice is realized over a wide temperature range.例文帳に追加

ブラッグ回折格子により規定される単一モード発振を広い温度範囲において実現可能な半導体レーザを提供する。 - 特許庁

The boron phosphide buffer layer is amorphous through low temperature growth and it is desirable to eliminate lattice mismatching to substrate crystal.例文帳に追加

リン化硼素系緩衝層は、低温成長させた非晶質のものとし、基板結晶との格子不整合を解消させるのが好ましい。 - 特許庁

A surface cleaning process is executed for 10 minutes without any change to increase the temperature of the single crystal substrate up to 1,100°C for 3 minutes and a lattice relaxing layer is formed.例文帳に追加

そのまま10分間表面クリーニング工程を行ない、単結晶基板を1100℃まで3分間かけて昇温し格子緩和層を形成する。 - 特許庁

By suppressing a heat treatment temperature to 600°C or below (the range of 350-600°C), the damage of the diffraction lattice 20 itself by pyrolysis is suppressed.例文帳に追加

熱処理温度を６００℃以下（３５０〜６００℃の範囲）に抑えることで、回折格子２０自体の熱分解による破損が抑制される。 - 特許庁

The honeycomb structure body is characterized by containing Si phase of which lattice constant at a room temperature is controlled to be 0.54302-0.54311 nm.例文帳に追加

室温における格子定数が０．５４３０２〜０．５４３１１ｎｍに制御されたＳｉ相を含有することを特徴とするハニカム構造体である。 - 特許庁

To realize quantum dot array formed on a semiconductor or high superconductive transition temperature in a general solid substance, and provide a lattice type within reach.例文帳に追加

半導体上に作製される量子ドット列、または一般の固体において高い超伝導転移温度を実現し、かつ実現可能な格子形を提供する。 - 特許庁