low-temperature annealingとは 意味・読み方・使い方

In accordance with the invention, second annealing is performed to the quartz glass stock, and, in the second annealing treatment, heating is performed at a low annealing temperature in the range of 350 to 800°C for one hour or more.例文帳に追加

本発明に従って当該石英ガラス素材に第2のアニール処理をし、この第2のアニール処理では、３５０℃から８００℃の範囲の低いアニール温度で、１時間以上加熱する。 - 特許庁

Further, the annealing is performed by always keeping the ambient temperature of the magnetooptical recording medium at a low temperature of 0°C as a means to realize the temperature gradient G'.例文帳に追加

また、温度勾配G'を実現する手段として、光磁気記録媒体の周囲温度を常に低温0℃以下に保ちアニール処理する。 - 特許庁

In a third annealing process, at the time of carrying out heat treatment again at an annealing temperature which is 700°C or higher, a crystal is grown with the crystal core 10 formed in the first annealing process and the temperature reducing process as a center, and a low-resistance titanium silicide film 9 is formed as a low-resistance metal film.例文帳に追加

第３アニール工程では、アニール温度を７００℃以上として再度熱処理を施すと、第１アニール工程および降温工程により形成された結晶核１０を中心として結晶を成長させ、低抵抗なチタンシリサイド膜９を低抵抗金属膜として形成させる。 - 特許庁

To provide a method for annealing steel wires capable of correctly measuring a temperature in a low temperature region in annealing the steel wires and thus appropriately controlling the temperature of a joint of the steel wires.例文帳に追加

スチールワイヤ焼鈍時の低温領域においても正確に温度を測定して、よってスチールワイヤの接合部を適切に温度調節することができるスチールワイヤの焼鈍方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resistor where increase rate of resistance is low even by a low temperature annealing after dopant activation heat treatment and that has high resistance.例文帳に追加

ドーパント活性化熱処理の後の低温アニールによっても抵抗の増加率が低く、かつ、高抵抗の抵抗体を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic device including an ohmic electrode for obtaining a low contact resistance by a low temperature and short annealing.例文帳に追加

低温短時間のアニールによっても、低いコンタクト抵抗を得ることのできるオーミック電極を備える電子デバイスを提供する。 - 特許庁

In a calcination step that calcines the lower electrode 3, the calcination is performed at a low temperature at which only the low-temperature melting layer 3A melts, and in an annealing process step of the piezoelectric layer 4, the annealing process is performed at a high temperature at which the high-temperature melting layer 3B melts.例文帳に追加

下部電極３を焼成する焼成工程においては、低温溶融層３Ａのみが溶融する低い温度で焼成を行い、圧電層４アニール処理工程においては、高温溶融層３Ｂが溶融する高い温度でアニール処理を行う。 - 特許庁

The production process is characterized in that, after recrystallization annealing, cold rolling is performed at a low reduction ratio of 7 to 55%, and thereafter, low-temperature annealing is performed.例文帳に追加

そして、製造方法は、再結晶焼鈍後に７％〜５５％の低加工率での冷間加工を行い、その後低温焼鈍することを特徴とする。 - 特許庁