linear plasmaとは 意味・読み方・使い方

The film deposition system comprises: a plasma chemical vapor growth means having a plasma linear source 7; an ion etching treatment means having an ion etching roller 5 arranged at prescribed intervals with the plasma linear source 7; and a film conveying means making a film 3 pass between the plasma linear source 7 and the ion etching roller 5.例文帳に追加

本発明の成膜装置は、プラズマリニアソース７を有するプラズマ化学気相成長手段と、プラズマリニアソース７と所定間隔をおいて配置されているイオンエッチングローラー５を有するイオンエッチング処理手段と、プラズマリニアソース７とイオンエッチングローラー５との間においてフィルム３を通過させるフィルム搬送手段と、を具備する。 - 特許庁

The prescribed linear function is selected from a plurality of linear functions in accordance with the opening ratio of the pattern in a thin film to be plasma-etched.例文帳に追加

所定の線形関数は、プラズマエッチングされる薄膜のパターン開口率に応じて、複数の線形関数の中から選択される。 - 特許庁

To provide a linear plasma mass filter which is equipped with a substantially linear constitution to an electric field and in which charged particles of different masses can be more precisely classified.例文帳に追加

電界に対して実質的に直線構成をそなえ、異なる質量の荷電粒子を更に精密に区別する線形プラズマ質量フィルタを提供する。 - 特許庁

Minute linear plasma is generated in an atmospheric pressure reaction container 41 filled with a process gas by using an electrode having linear conductors 51a, 52a.例文帳に追加

線状導電体５１a,５２aを有する電極を用い、プロセスガスで充満させた大気圧の反応容器４１内で、微細なライン状プラズマを発生させる。 - 特許庁

Linear solid injection material or liquid injection material is accelerated by gas pressure and injected into a plasma 2.例文帳に追加

線状の固体注入物質または液体注入物質をガス圧で加速しプラズマ２に注入する。 - 特許庁

The planar plasma can be apparently formed by diffusing the linear plasma by adjusting the process gas or a voltage application means 44.例文帳に追加

また、プロセスガスまたは電圧印加手段４４を調整することによって、上記ライン状プラズマを拡散させて、見掛け上、面状プラズマを形成する。 - 特許庁

To prevent damages by making a potential difference between linear conductive interconnections and other elements small when irradiating plasmas in plasma treatment of a substrate with the linear conductive interconnections.例文帳に追加

直線状導電性配線を有する基板のプラズマ処理において、プラズマ照射時の導電性配線と他要素との電位差を小さくし、ダメージを防止する。 - 特許庁

To provide an atmospheric-pressure plasma generation head capable of stably providing a highly-uniform processing region, in an atmospheric-pressure plasma head for generating a linear processing region.例文帳に追加

ライン状の処理領域を生成する大気圧プラズマヘッドにおいて、均一性の良い処理領域を安定して得られる大気圧プラズマ生成ヘッドを提供する。 - 特許庁